LAYER SYSTEM OF A TRANSPARENT SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING A LAYER SYSTEM

Bei dem erfindungsgemäßen Infrarotstrahlung reflektierenden Schichtsystem eines transparenten Substrats (100), umfassend in dieser Reihenfolge angeordnet: - eine auf dem transparenten Substrat (100) angeordnete erste dielektrische Schicht (D1), - eine auf der ersten dielektrischen Schicht (D1) angeordnete zweite dielektrische Schicht (D2), - ein erstes Metallschichtsystem (MS1), umfassend in dieser Reihenfolge: - eine erste Metallschicht (M1),vorzugsweise bestehend oder umfassend Ag, - eine erste Blockerschicht (B1), - ein dielektrisches Barrieredeckschichtsystem (BDS), ist vorgesehen, dass die erste dielektrische Schicht (D1) aus SiO2 und die zweite dielektrische Schicht (D2) aus TiO2 oder Al2O3 besteht oder umfasst, oder dass die erste dielektrische Schicht (D1) aus Al2O3 besteht oder umfasst und die zweite dielektrische Schicht (D2) aus TiO2 besteht oder umfasst. Bei dem Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Infrarot reflektierenden Schichtsystems auf einem bereitgestellten transparenten Substrat (100) ist vorgesehen, dass zumindest eine der aufgebrachten Einzelschichten durch Sputtern eines keramischen Targets oder reaktives Sputtern aufgebracht wird. The invention relates to a layer system of a transparent substrate (100) reflecting an infrared radiation, comprising, arranged in this order: a first dialectic layer (D1) arranged on the transparent substrate (100); a second dialectic layer (D2) arranged on the first dialectic layer (D1); a first metal layer system (MS1) comprising, in this order: a first metal layer (M1), preferably made of or comprising Ag; a first blocking layer (B1). A dielectric barrier cover layer system (BDS) is provided. The first dielectric layer (D1) is made of or comprises SiO2, and the second dielectric layer (D2) is made of or comprises TiO2 or Al2O3, or the first dielectric layer (D1) is made of or comprises Al2O3 and the second dielectric layer (D2) is made of or comprises TiO2. In the method for producing an infrared reflective layer system on a provided transparent substrate (100) according to the invention, at least one of the applied individual layers is applied by sputtering a ceramic target or by reactive sputtering. L'invention concerne un système de couches d'un substrat transparent (100) qui réfléchit le rayonnement infrarouge. Ledit système comprend dans cet ordre : - une première couche diélectrique (D1) disposée sur le substrat transparent (100), - une seconde couche diélectrique (D2) disposée sur l