FLUID-CONDUCTING SYSTEM WITH CATHODIC CORROSION PROTECTION
Die Erfindung betrifft ein fluidführendes System mit kathodischem Korrosionsschutz mit wenigstens einer einen Förderstrom fördernden und/oder beeinflussenden Vorrichtung (1, 101), insbesondere Pumpe und/oder Armatur mit wenigstens einer Anschlussvorrichtung (7, 8, 107, 108), und mit wenigstens einer...
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Hauptverfasser: | , , , , |
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre ; ger |
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Zusammenfassung: | Die Erfindung betrifft ein fluidführendes System mit kathodischem Korrosionsschutz mit wenigstens einer einen Förderstrom fördernden und/oder beeinflussenden Vorrichtung (1, 101), insbesondere Pumpe und/oder Armatur mit wenigstens einer Anschlussvorrichtung (7, 8, 107, 108), und mit wenigstens einer einen Förderstrom führenden Vorrichtung (10, 12, 110, 112), insbesondere Rohrelement, mit Anschlussmittel. Erfindungsgemäß umfasst das fluidführendes System ringförmige Anoden (13, 14, 113, 114), wobei zwischen einer ersten (7, 107) und einer zweiten Anschlussvorrichtung (8, 108) und/oder zwischen einer ersten Anschlussvorrichtung (7, 107) und einem Anschlussmittel (9, 109) und/oder zwischen einer zweiten Anschlussvorrichtung (8, 108) und einem Anschlussmittel (11, 111) jeweils eine Anode (13, 14, 113, 114) angeordnet ist, die Anoden (13, 14, 113, 114) mittels einen oder mehrere Leiter aufweisenden Leitungen (24, 25) mit einer Überwachungseinrichtung (19) elektrisch verbunden sind und der Innendurchmesser (dA) der Anoden (13, 14, 113, 114) gleich dem Innendurchmesser (dR) der an der jeweiligen Anode (13, 14, 113, 114) angeordneten Förderstrom führenden Vorrichtung (10, 12, 110, 112) ist. Die Erfindung betrifft ferner eine einen Förderstrom fördernde oder beeinflussende Vorrichtung, insbesondere Pumpenanordnung oder Armaturenanordnung für ein fluidführendes System mit kathodischem Korrosionsschutz.
The invention relates to a fluid-conducting system with cathodic corrosion protection, having at least one device (1, 101) influencing a flow rate and/or acting upon said flow rate, in particular a pump and/or armature having at least one connection device (7, 8, 107, 108), and with at least one device (10, 12, 110, 112) guiding the flow rate, in particular a pipe, with connection means. According to the invention, the fluid-conducting system comprises annular anodes (13, 14, 113, 114), an anode (13, 14, 113, 114) being arranged between the first (7, 107) and a second connection device (8, 108) and/or between a first connection device (7, 107) and connecting means (9, 109) and/or between a second connection device (8, 108) and connection means (11, 111), said anodes (13, 14, 113, 114) being electrically connected by means of lines (24, 25) comprising one or several conductors, to a monitoring device (19) and the internal diameter (dA) of the anodes (13, 14, 113, 114) being equal to the internal diameter (dR) of the device (10, 12, 110, 112) guiding the flow rate and a |
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