GAS SPRAYER AND THIN FILM DEPOSITING APPARATUS HAVING THE SAME

A thin film depositing apparatus includes a gas sprayer which is capable of forming a uniform thin film and reducing processing time. Such a gas sprayer includes an upper plate and a bottom plate. The upper plate includes a plurality of gas injection inputs. The bottom plate is coupled to the upper plate to form diffusion space therebetween, and includes a first gas spraying holes for injecting gas in the diffusion space which is injected through the plurality of first gas injection inputs. Herein, the plurality of first gas injection inputs is arranged symmetrically with respect to each other. La présente invention concerne un appareil de dépôt de film mince comprenant un diffuseur de gaz qui permet de former un film mince uniforme tout en réduisant le temps de traitement. Un tel diffuseur de gaz comprend un plateau supérieur et un plateau inférieur. Le plateau supérieur comprend une pluralité d'entrées d'injection de gaz. Le plateau inférieur est accouplé au plateau supérieur de sorte qu'un espace de diffusion se forme entre eux, et comprend une première série de trous de diffusion de gaz destinés à injecter du gaz dans l'espace de diffusion, ledit gaz étant injecté au travers de la pluralité de premières entrées d'injection de gaz. Selon l'invention, la pluralité de premières entrées d'injection de gaz sont disposées symétriquement l'une par rapport à l'autre.