BEAM POSITION CONTROL FOR AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE

A system for an extreme ultraviolet light source includes one or more optical elements positioned to receive a reflected amplified light beam and to direct the reflected amplified light beam into first, second, and third channels, the reflected amplified light beam including a reflection of at least a portion of an irradiating amplified light beam that interacts with a target material; a first sensor that senses light from the first channel; a second sensor that senses light from the second channel and the third channel, the second sensor having a lower acquisition rate than the first sensor. L'invention concerne un système pour une source de lumière ultraviolette extrême qui comprend un ou plusieurs éléments optiques positionnés pour recevoir un faisceau de lumière amplifiée réfléchi et pour diriger le faisceau de lumière amplifiée réfléchi dans des premier, deuxième et troisième canaux, le faisceau de lumière amplifiée réfléchi comprenant une réflexion d'au moins une partie d'un faisceau de lumière amplifiée irradiant qui interagit avec un matériau cible ; un premier capteur qui détecte la lumière du premier canal ; un deuxième capteur qui détecte la lumière du deuxième canal et du troisième canal, le deuxième capteur ayant un taux d'acquisition inférieur à celui du premier capteur.