IDENTIFYING CIRCUIT ELEMENTS FOR SELECTIVE INCLUSION IN SPEED-PUSH PROCESSING IN AN INTEGRATED CIRCUIT, AND RELATED CIRCUIT SYSTEMS, APPARATUS, AND COMPUTER-READABLE MEDIA
Embodiments of the disclosure include identifying circuit elements for selective inclusion in speed-push processing and related circuit systems, apparatus, and computer-readable media. A method for altering a speed-push mask is provided, including analyzing a circuit design comprising a plurality of...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Embodiments of the disclosure include identifying circuit elements for selective inclusion in speed-push processing and related circuit systems, apparatus, and computer-readable media. A method for altering a speed-push mask is provided, including analyzing a circuit design comprising a plurality of cells to which a speedpush mask is applied to identify at least one of the plurality of cells as having performance margin. The speed-push mask is altered such that the at least one of the plurality of cells having performance margin may be fabricated as a non-speed-pushed cell. Additionally, a method for creating a speed-push mask is provided, including analyzing a circuit design comprising a plurality of cells to identify at least one of the plurality of cells below a performance threshold. A speed-push mask is created such that the at least one of the plurality of cells below the performance threshold may be fabricated as a speed-pushed cell.
Des modes de réalisation de la présente invention portent sur l'identification d'éléments de circuit pour une inclusion sélective dans un traitement de poussée en vitesse et sur des systèmes de circuit, un appareil et des supports lisibles par ordinateur associés. Un procédé pour modifier un masque de poussée en vitesse est fourni, comprenant l'analyse d'une conception de circuit comprenant une pluralité de cellules sur lesquelles un masque de poussée en vitesse est appliqué pour identifier au moins une cellule de la pluralité de cellules comme ayant une marge de performances. Le masque de poussée en vitesse est modifié de telle sorte que l'au moins une cellule de la pluralité de cellules ayant une marge de performances peut être fabriquée en tant que cellule non poussée en vitesse. De plus, un procédé pour créer un masque de poussée en vitesse est fourni, comprenant l'analyse d'une conception de circuit comprenant une pluralité de cellules pour identifier au moins une cellule de la pluralité de cellules sous un seuil de performances. Un masque de poussée en vitesse est créé de telle sorte que l'au moins une cellule de la pluralité de cellules sous le seuil de performances puisse être fabriquée en tant que cellule poussée en vitesse. |
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