ADAPTABLE ILLUMINATING APPARATUS, SYSTEM, AND METHOD FOR EXTREME ULTRA-VIOLET LIGHT

An apparatus for focusing light in a semi-conductor inspection system, including: a first mirror arranged to reflect extreme ultra-violet (EUV) generated by a plasma source; and a second mirror arranged to focus the EUV light, reflected from the first mirror, onto a first intermediate focus plane. A homogenizing tunnel, including: a first aperture having a first shape and a first size and arranged to receive extreme ultra-violet (EUV) light; a second aperture having a second shape and a second size; and a passageway connecting the first and second apertures and arranged to homogenize the EUV light received by the first aperture. The first shape is different from the second shape or the first size is different from the second size. La présente invention concerne un appareil pour la focalisation de lumière dans un système d'inspection de semi-conducteurs comportant : un premier miroir agencé pour réfléchir une lumière extrême ultraviolette (EUV) générée par une source de plasma ; et un second miroir agencé pour focaliser la lumière extrême ultraviolette, réfléchie par le premier miroir, sur un premier plan de focalisation intermédiaire. Un tunnel d'homogénéisation, comportant : une première ouverture présentant une première forme et une première dimension et agencée pour recevoir la lumière extrême ultraviolette ; une seconde ouverture présentant une seconde forme et une seconde dimension ; et un passage reliant les première et seconde ouvertures pour l'homogénéisation de la lumière extrême ultraviolette reçue par la première ouverture. La première forme est différente de la seconde forme et la première dimension est différente de la seconde dimension.