PROCESS CHAMBER GAS FLOW APPARATUS, SYSTEMS, AND METHODS
Process chamber gas flow control apparatus having a tiltable valve are disclosed. The gas flow apparatus includes a process chamber adapted to contain a substrate, an exit from the process chamber including a valve seat, and a tiltable valve configured and adapted to tilt relative to the valve seat...
Gespeichert in:
Hauptverfasser: | , , , , |
---|---|
Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
Schlagworte: | |
Online-Zugang: | Volltext bestellen |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Zusammenfassung: | Process chamber gas flow control apparatus having a tiltable valve are disclosed. The gas flow apparatus includes a process chamber adapted to contain a substrate, an exit from the process chamber including a valve seat, and a tiltable valve configured and adapted to tilt relative to the valve seat to control flow non-uniformities within the process chamber. Systems and methods including the tiltable valve apparatus are disclosed, as are numerous other aspects.
L'invention concerne un appareil à flux de gaz de chambre de procédé comportant une vanne inclinable. L'appareil à flux de gaz comprend une chambre de procédé adaptée pour contenir un substrat, une sortie de la chambre de procédé comprenant un siège de vanne, et une vanne inclinable conçue et adaptée pour s'incliner par rapport au siège de vanne pour commander les irrégularités d'écoulement au sein de la chambre de procédé. L'invention concerne des systèmes et procédés comprenant l'appareil à vanne inclinable, de même que de nombreux autres aspects. |
---|