METROLOGY TARGET CHARACTERIZATION

Methods and systems are provided, which identify specified metrology target abnormalities using selected metrics and classify the identified target abnormalities geometrically to link them to corresponding sources of error. Identification may be carried out by deriving target signals such as kernels from specified regions of interest (ROIs) from corresponding targets on a wafer, calculating the metrics from the target signals using respective functions and analyzing the metrics to characterize the targets. La présente invention concerne des procédés et des systèmes permettant d'identifier des anomalies de cible de métrologie spécifiques au moyen de mesures sélectionnées, et permettant également de classifier les anomalies de cible identifiées de manière géométrique afin de les lier à des sources d'erreur correspondantes. L'identification peut être effectuée en dérivant des signaux de cible (kernels par exemple) de régions d'intérêt spécifiques (ROI) depuis des cibles correspondantes sur une tranche, en calculant les mesures à partir des signaux de cible et au moyen de fonctions respectives, puis en analysant les mesures pour caractériser les cibles.