METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING RADIATION

A method of generating radiation for a lithography apparatus. The method comprises providing a continuously renewing fuel target (50) at a plasma formation location (12) and directing a continuous- wave excitation beam (6) at the plasma formation location such that fuel within the continuously renew...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: LOOPSTRA, ERIK, STRUYCKEN, ALEXANDER, NIKIPELOV, ANDREY, VAN DRIEËNHUIZEN, BERT, VAN SCHOOT, JAN, BANINE, VADIM, OSORIO OLIVEROS, EDGAR, YAKUNIN, ANDREI
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method of generating radiation for a lithography apparatus. The method comprises providing a continuously renewing fuel target (50) at a plasma formation location (12) and directing a continuous- wave excitation beam (6) at the plasma formation location such that fuel within the continuously renewing fuel target is excited by the continuous-wave excitation beam to generate a radiation generating plasma. La présente invention porte sur un procédé de génération de rayonnement pour un appareil de lithographie. Le procédé consiste à fournir une cible de combustible à renouvellement en continu au niveau d'une position de formation de plasma et diriger un faisceau d'excitation à onde continue vers la position de formation de plasma de telle sorte qu'un combustible dans la cible de combustible à renouvellement en continu est excité par le faisceau d'excitation à onde continue pour générer un plasma générant un rayonnement.