METHOD AND APPARATUS FOR GENERATING RADIATION
A method of generating radiation for a lithography apparatus. The method comprises providing a continuously renewing fuel target (50) at a plasma formation location (12) and directing a continuous- wave excitation beam (6) at the plasma formation location such that fuel within the continuously renew...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | A method of generating radiation for a lithography apparatus. The method comprises providing a continuously renewing fuel target (50) at a plasma formation location (12) and directing a continuous- wave excitation beam (6) at the plasma formation location such that fuel within the continuously renewing fuel target is excited by the continuous-wave excitation beam to generate a radiation generating plasma.
La présente invention porte sur un procédé de génération de rayonnement pour un appareil de lithographie. Le procédé consiste à fournir une cible de combustible à renouvellement en continu au niveau d'une position de formation de plasma et diriger un faisceau d'excitation à onde continue vers la position de formation de plasma de telle sorte qu'un combustible dans la cible de combustible à renouvellement en continu est excité par le faisceau d'excitation à onde continue pour générer un plasma générant un rayonnement. |
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