POLYMERIC MATERIALS WITH NANOSCALE FUNCTIONAL COATINGS

A film deposition process comprising exposing a surface of a substrate to a first plasma treatment having plasma reactants in a plasma chamber to form an activated substrate surface. The activated surface has a lower water contact angle than the substrate surface before the surface activating. The process comprises introducing water vapor into the plasma chamber to form a water layer on the activated surface. The process comprises introducing pre-cursors molecules into the plasma chamber in the presence of a second plasma to graft a layer of reacted pre-cursor molecules on the water layer. La présente invention concerne un traitement de dépôt de film faisant appel à l'exposition d'une surface d'un substrat à un premier traitement au plasma comportant des réactifs excités par plasma dans une chambre de plasma pour former une surface de substrat activée. Selon l'invention, la surface activée présente un angle de contact avec l'eau inférieur à celui de la surface de substrat avant l'activation de la surface. Le procédé fait appel à l'introduction de vapeur d'eau dans la chambre de plasma pour former une couche d'eau sur la surface activée. Le procédé fait appel à l'introduction de molécules de précurseurs dans la chambre de plasma en présence d'un second plasma afin de greffer sur la couche d'eau une couche de molécules de précurseurs ayant réagi.