APPARATUS FOR TREATING ION BEAM

An ion beam scanning assembly (202, 300) includes a set of scanning electrodes (314a, 314b, 316a, 316b, 318) defining a gap (330) to accept an ion beam and scan the ion beam in a first plane (xz-plane), and a multipole electrostatic lens system comprising a plurality of electrodes (304, 306, 310, 31...

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1. Verfasser: CHANG, SHENGWU
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:An ion beam scanning assembly (202, 300) includes a set of scanning electrodes (314a, 314b, 316a, 316b, 318) defining a gap (330) to accept an ion beam and scan the ion beam in a first plane (xz-plane), and a multipole electrostatic lens system comprising a plurality of electrodes (304, 306, 310, 312) arranged along a portion of a path of travel of the ion beam bounded by the pair of scanning electrodes, the multipole electrostatic lens system configured to shape the ion beam in a direction (y) perpendicular to the first plane. L'invention concerne un système de balayage à faisceau ionique (202, 300) comprenant un ensemble d'électrodes de balayage (314a, 314b, 316a, 316b, 318) définissant un jour (330) afin de recevoir un faisceau ionique et d'assurer le balayage du faisceau ionique dans un premier plan (plan xz), et un système de lentilles électrostatiques multipôles comprenant plusieurs électrodes (304, 306, 310, 312) disposées le long d'une partie du trajet de déplacement du faisceau ionique liées par les deux électrodes de balayage, lequel système de lentilles électrostatiques multipôles est conçu pour mettre en forme le faisceau ionique dans une direction (y) perpendiculaire au premier plan.