METHODS AND SYSTEMS FOR FAST IMPRINTING OF NANOMETER SCALE FEATURES IN A WORKPIECE

The subject matter described herein relates to methods and systems for fast imprinting of nanometer scale features in a workpiece. According to one aspect, a system for producing nanometer scale features in a workpiece is disclosed. The system includes a die having a surface with at least one nanome...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: NOWAK, WILLIAM JOHN, DOW, THOMAS A, ZDANOWICZ, ERIK, SCATTERGOOD, RON, SOHN, ALEXANDER
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:The subject matter described herein relates to methods and systems for fast imprinting of nanometer scale features in a workpiece. According to one aspect, a system for producing nanometer scale features in a workpiece is disclosed. The system includes a die having a surface with at least one nanometer scale feature located thereon. A first actuator moves the die with respect to the workpiece such that the at least one nanometer scale feature impacts the workpiece and imprints a corresponding at least one nanometer scale feature in the workpiece. La présente invention concerne des procédés et des systèmes pour l'impression rapide de caractéristiques à l'échelle du nanomètre dans une pièce à usiner. Selon un aspect, l'invention concerne un système de production de caractéristiques à l'échelle du nanomètre dans une pièce à usiner. Le système inclut une matrice ayant une surface avec au moins une caractéristique à l'échelle du nanomètre localisée dessus. Un premier actuateur déplace la matrice par rapport à la pièce à usiner de telle sorte que la ou les caractéristique(s) à l'échelle du nanomètre percute(nt) la pièce à usiner et imprime(nt) au moins une caractéristique correspondante à l'échelle du nanomètre dans la pièce à usiner.