CONTROLLING INTENSITY OF A PARTICLE BEAM
In an example, a synchrocyclotron includes a particle source to provide pulses of ionized plasma to a cavity; a voltage source to provide a radio frequency (RF) voltage to the cavity to accelerate particles from the plasma column outwardly; and an extraction channel to receive a beam of particles fr...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | In an example, a synchrocyclotron includes a particle source to provide pulses of ionized plasma to a cavity; a voltage source to provide a radio frequency (RF) voltage to the cavity to accelerate particles from the plasma column outwardly; and an extraction channel to receive a beam of particles from the cavity for output from the particle accelerator. The particle source is configured to control pulse widths of the ionized plasma in order to control an intensity of the beam of particles. This example synchrocyclotron may include one or more of the following features, either alone or in combination.
Selon un exemple de la présente invention, un synchrocyclotron inclut une source de particules permettant de fournir des impulsions de plasma ionisé à une cavité ; une source de tension permettant de fournir une tension radiofréquence (RF) à la cavité en vue d'accélérer les particules à partir de la colonne de plasma vers l'extérieur ; et un canal d'extraction permettant de recevoir un faisceau de particules en provenance de la cavité pour une sortie à partir de l'accélérateur de particules. La source de particules est conçue de manière à contrôler les largeurs d'impulsion du plasma ionisé afin de contrôler une intensité du faisceau de particules. Ce synchrocyclotron donné à titre d'exemple peut inclure une ou plusieurs des caractéristiques qui suivent, soit seules soit en association. |
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