ATMOSPHERIC-PRESSURE PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD

A plasma processing apparatus including powered electrodes having elongated planar surfaces; grounded electrodes having elongated planar surfaces parallel to and coextensive with the elongated surfaces of the powered electrodes, and spaced-apart a chosen distance therefrom, forming plasma regions, is described. RF power is provided to the at least one powered electrode, both powered and grounded electrodes may be cooled, and a plasma gas is flowed through the plasma regions at atmospheric pressure; whereby a plasma is formed in the plasma regions. The material to be processed may be moved into close proximity to the exit of the plasma gas from the plasma regions perpendicular to the gas flow, and perpendicular to the elongated electrode dimensions, whereby excited species generated in the plasma exit the plasma regions and impinge unimpeded onto the material. L'invention concerne un appareil de traitement au plasma comprenant des électrodes alimentées ayant des surfaces planes allongées ; des électrodes mises à la terre ayant des surfaces planes allongées parallèles aux surfaces allongées des électrodes alimentées, de même étendue que ces dernières et espacées de ces dernières d'une distance choisie, formant des régions de plasma. Une alimentation RF est fournie à la ou aux électrodes alimentées, les électrodes alimentées et mises à la terre peuvent être refroidies, et un gaz plasma s'écoule à travers les régions de plasma à la pression atmosphérique, ce qui permet de former un plasma dans les régions de plasma. Le matériau à traiter peut être déplacé à proximité immédiate de la sortie du gaz plasma en provenance des régions de plasma perpendiculaires au flux de gaz, et perpendiculaires aux dimensions d'électrode allongée, grâce à quoi des espèces excitées produites dans le plasma sortent des régions de plasma et affectent sans entrave le matériau.