RETICLE CLEANING BY MEANS OF STICKY SURFACE

Methods and systems are described for cleaning contamination from the surface of an object within a lithographic apparatus. A lithographic apparatus is provided that includes an illumination system configured to condition a radiation beam, a support constructed to hold a patterning device (302), the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. The lithographic apparatus further includes a cleaning system (500) for cleaning particles off of a surface of either the support or the patterning device. The cleaning system includes a cleaning surface (502) designed to contact the surface of either the support or the patterning device. La présente invention se rapporte à des procédés et à des systèmes qui permettent d'enlever toute contamination de la surface d'un objet dans un appareil lithographique. L'appareil lithographique décrit comprend : un système d'éclairage conçu pour préparer un faisceau de rayonnement ; un support destiné à retenir un dispositif de formation de motif (302), ce dispositif de formation de motif pouvant donner un motif à la section transversale du faisceau de rayonnement afin d'obtenir un faisceau de rayonnement à motif ; une table de substrat prévue pour retenir un substrat ; ainsi qu'un système de projection servant à projeter le faisceau de rayonnement à motif sur une partie cible du substrat. Ledit appareil lithographique comporte en outre un système de nettoyage (500) conçu pour enlever des particules de la surface du support ou du dispositif de formation de motif. Ce système de nettoyage possède une surface de nettoyage (502) qui est prévue pour entrer en contact avec la surface du support ou du dispositif de formation de motif.