METHOD AND APPARATUS DEPOSITION PROCESS SYNCHRONIZATION

Methods and apparatus for processing a substrate in a process chamber, include receiving process control parameters for one or more devices from a process controller to perform a first chamber process, determining a time to send each of the process control parameters to the one or more devices, for each of the one or more devices, adjusting the determined time to send each of the process control parameters using specific signal process delays associated with each of the one or more devices, and sending the process control parameters to each of the one or more devices at the adjusted times to perform the first chamber process, wherein the synchronization controller includes one or more output channels, each channel directly coupled to one of the one or more devices. La présente invention porte sur des procédés et un appareil pour traiter un substrat dans une chambre de traitement, qui comprennent la réception de paramètres de commande de traitement pour un ou plusieurs dispositifs depuis un contrôleur de traitement pour réaliser un premier traitement de chambre, la détermination d'un temps pour envoyer chacun des paramètres de commande de traitement au ou aux dispositifs, pour chacun du ou des dispositifs, l'ajustement du temps déterminé pour envoyer chacun des paramètres de commande de traitement en utilisant des retards de traitement de signal spécifiques associés à chacun du ou des dispositifs, et l'envoi des paramètres de commande de traitement à chacun du ou des dispositifs aux temps ajustés pour réaliser le premier traitement de chambre, le contrôleur de synchronisation comprenant un ou plusieurs canaux de sortie, chaque canal étant directement couplé à l'un du ou des dispositifs.