ADAPTIVE PATTERN GENERATION

Embodiments of the present invention provide systems and method for adaptively generating a pattern (12) for fabricating semiconductor devices, the method comprising obtaining image data of a surface (2), and dynamically modifying a pattern to be applied to the surface based on the obtained image da...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser:	RUDIN, JOHN CHRISTOPHER
Format:	Patent
Sprache:	eng ; fre
Schlagworte:	APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR CINEMATOGRAPHY ELECTROGRAPHY HOLOGRAPHY MATERIALS THEREFOR ORIGINALS THEREFOR PHOTOGRAPHY PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES PHYSICS
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Beschreibung
Zusammenfassung:	Embodiments of the present invention provide systems and method for adaptively generating a pattern (12) for fabricating semiconductor devices, the method comprising obtaining image data of a surface (2), and dynamically modifying a pattern to be applied to the surface based on the obtained image data. Des modes de réalisation de la présente invention portent sur des systèmes et un procédé pour génération de manière adaptative d'un motif (12) pour fabriquer des dispositifs de semi-conducteur, le procédé comprenant l'obtention de données d'image d'une surface (2), et la modification de manière dynamique d'un motif à appliquer à la surface sur la base des données d'image obtenues.