SYSTEM AND METHOD FOR CLEANING SURFACES AND COMPONENTS OF MASK AND WAFER INSPECTION SYSTEMS BASED ON THE POSITIVE COLUMN OF A GLOW DISCHARGE PLASMA

A system and method to clean surfaces and components of mask and wafer inspection systems based on the positive column of a glow discharge plasma are disclosed. The surface may be the surface of an optical component in a vacuum chamber or an interior wall of the vacuum chamber. A cathode and an anode may be used to generate the glow discharge plasma. The negative glow associated with the cathode may be isolated and the positive column associated with the anode may be used to clean the optical component or the interior wall of the vacuum chamber. As such, an in situ cleaning process, where the cleaning is done within the vacuum chamber, may be performed. L'invention concerne un système et un procédé pour nettoyer des surfaces et des systèmes d'inspection de composants de masque et de plaquette basés sur la colonne positive d'un plasma à décharge luminescente. La surface peut être la surface d'un composant optique dans une chambre à vide ou une paroi intérieure de la chambre à vide. Une cathode et une anode peuvent être utilisées pour générer le plasma à décharge luminescente. La luminescence négative associée à la cathode peut être isolée et la colonne positive associée à l'anode peut être utilisée pour nettoyer le composant optique ou la paroi intérieure de la chambre à vide. En tant que tel, un processus de nettoyage in situ, dans lequel le nettoyage est effectué dans la chambre à vide, peut être réalisé.