CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE

A charged particle beam device that appropriately maintains device throughput for each sample having a different gas emission amount. A scanning electron microscope, comprising: an electron source, a sample table, a sample chamber, an exchange chamber, and a vacuum gauge that measures the pressure i...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: GUNJI, KAZUHIRO, EBIZUKA, YASUSHI, ASAGA, YUTA
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:A charged particle beam device that appropriately maintains device throughput for each sample having a different gas emission amount. A scanning electron microscope, comprising: an electron source, a sample table, a sample chamber, an exchange chamber, and a vacuum gauge that measures the pressure inside the exchange chamber; a time counting unit that measures the time until the measurement results from the vacuum gauge reach a prescribed vacuum level; and an integrated control unit that performs comparison calculations and evaluations on the basis of the measurement results from the time counting unit, and integrated control on the basis of processing flows. The integrated control unit switches subsequent processing content, on the basis of changes in the vacuum levels of the exchange chamber (e.g., the vacuum discharge time for the exchange chamber when the sample is in the exchange chamber, and the change in the vacuum levels of the exchange chamber relative to a prescribed time interval when the sample is in the exchange chamber). L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées qui maintient de manière appropriée un débit de dispositif pour chaque échantillon ayant une quantité différente d'émission de gaz. L'invention concerne également un microscope électronique à balayage, comprenant : une source d'électrons, une table d'échantillon, une chambre d'échantillon, une chambre d'échange et une jauge de vide qui mesure la pression à l'intérieur de la chambre d'échange ; une unité de chronométrage qui mesure le temps jusqu'à ce que les résultats de mesure de la jauge de vide atteignent un niveau de vide prescrit ; et une unité de commande intégrée qui réalise des calculs et des évaluations de comparaison sur la base des résultats de mesure provenant de l'unité de chronométrage, et une commande intégrée sur la base du flux du traitement. L'unité de commande intégrée commute des contenus de traitement suivants, sur la base de changements des niveaux de vide de la chambre d'échange (par exemple, le temps de décharge de vide de la chambre d'échange lorsque l'échantillon est dans la chambre d'échange, et le changement des niveaux de vide de la chambre d'échange par rapport à un intervalle de temps prescrit lorsque l'échantillon est dans la chambre d'échange).