METHODS OF PROVIDING PATTERNED CHEMICAL EPITAXY TEMPLATES FOR SELF-ASSEMBLABLE BLOCK COPOLYMERS FOR USE IN DEVICE LITHOGRAPHY

A method of forming a patterned chemical epitaxy template, for orientation of a self-assemblable block copolymer comprising first and second polymer blocks, on a surface of a substrate, the method including applying a primer layer of a primer composition to the surface, the primer composition comprising a first polymer moiety having a chemical affinity with the first polymer blocks and a second polymer moiety having a chemical affinity with the second polymer blocks, selectively exposing the surface, the primer layer and any overlying layer to actinic radiation to provide exposed and unexposed regions, to render labile the first polymer moiety in the exposed region, and removing the labile first polymer moiety from the exposed region to deplete the primer layer surface in the exposed region of first polymer moiety to form the patterned chemical epitaxy template. La présente invention concerne un procédé de formation d'un gabarit pour épitaxie chimique à motif, servant à orienter un copolymère séquencé auto-assemblable comprenant une première et une seconde séquence polymère, sur une surface d'un substrat. Le procédé comprend l'application d'une couche de primaire d'une composition de primaire sur la surface, la composition de primaire contenant un premier fragment polymère présentant une affinité chimique avec les premières séquences polymères et un second fragment polymère présentant une affinité chimique avec les secondes séquences polymères, l'exposition sélective de la surface, de la couche de primaire et de n'importe quelle couche sus-jacentes à un rayonnement actinique pour obtenir des régions exposées et non exposées, afin de rendre labile le premier fragment polymère dans la région exposée, et l'élimination du premier fragment polymère labile de la région exposée pour diminuer la surface de la couche de primaire dans la région exposée du premier fragment polymère afin de former le gabarit pour épitaxie chimique à motif.