POLISHING PAD AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

The method for manufacturing a polishing pad according to the present invention includes the steps of: mixing materials for forming a polishing layer; forming at least two types of pores by mixing the mixture of the above step with at least two of an inert gas, a capsule type foaming agent, a chemical foaming agent, and a liquid state differential element, each of which has a controllable pore size; manufacturing a polishing layer which includes at least two types of pores by gelating or hardening the mixture which is produced through the above steps; and a step of processing the polishing layer so as to distribute the pores of at least two types on the surface by opening up the pores. Le procédé de fabrication d'un tampon de polissage selon la présente invention comprend les étapes suivantes : le mélange de matériaux afin de former une couche de polissage ; la formation d'au moins deux types de pores par le mélange du mélange de l'étape ci-dessus avec au moins deux éléments parmi un gaz inerte, un agent moussant du type capsule, un agent moussant chimique et un élément différentiel à l'état liquide, chacun desdits éléments présentant une taille de pores réglable ; la fabrication d'une couche de polissage comprenant au moins deux types de pores par la gélification ou le durcissement du mélange produit par le biais des étapes ci-dessus ; et une étape de traitement de la couche de polissage de manière à répartir les pores d'au moins deux types sur la surface par l'ouverture des pores.