CURABLE AND PATTERNABLE INKS AND METHOD OF PRINTING

A curable and patternable ink, a method of using this ink as part of a structure that performs a function in an electronic device, and a soft lithographic method for forming said structure on a substrate for use within the electronic device is disclosed. The curable and patternable ink generally com...

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Hauptverfasser: LEE, IL, YONG, HYUN, DAESUP
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A curable and patternable ink, a method of using this ink as part of a structure that performs a function in an electronic device, and a soft lithographic method for forming said structure on a substrate for use within the electronic device is disclosed. The curable and patternable ink generally comprises a first portion defined by structural units of (R)SiO3/2; a second portion defined by structural units of (R)2SiO2/2; and an organic solvent. Alternatively, the ink further comprises structural units (R)3SiO1/2 or SiO4/2. The R group is independently selected to be an aryl group, a methyl group, or a cross-linkable group with the number of aryl groups being present in an amount that ranges from at least one aryl group up to 20 mole %. The patternable ink may be applied to a substrate using a soft lithographic process with good reproducibility of the applied pattern. L'invention concerne une encre durcissable sur laquelle un motif peut être formé, un procédé d'utilisation de cette encre comme partie d'une structure mettant en oeuvre une fonction dans un dispositif électronique, et un procédé de lithographie douce permettant de former ladite structure sur un substrat destiné à être utilisé dans le dispositif électronique. L'encre durcissable sur laquelle un motif peut être formé comprend généralement une première partie, définie par des motifs structuraux (R)SiO3/2; une deuxième partie, définie par des motifs structuraux (R)2SiO2/2; et un solvant organique. Dans une autre forme de réalisation, l'encre comprend en outre des motifs structuraux (R)3SiO1/2 ou SiO4/2. Le groupe R est sélectionné indépendamment dans le groupe constitué par un groupe aryle, un groupe méthyle ou un groupe réticulable dont le nombre des groupes aryle est compris entre au moins un groupe aryle et 20 % molaire. Cette encre, sur laquelle un motif peut être formé, peut être appliquée sur un substrat au moyen d'un procédé de lithographie douce avec une bonne reproductibilité du motif appliqué.