SYSTEM ARCHITECTURE FOR COMBINED STATIC AND PASS-BY PROCESSING
Disclosed is a substrate processing system which enables combined static and pass-by processing. Also, a system architecture is provided, which reduces footprint size. The system is constructed such that the substrates are processed therein vertically, and each chamber has a processing source attach...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Disclosed is a substrate processing system which enables combined static and pass-by processing. Also, a system architecture is provided, which reduces footprint size. The system is constructed such that the substrates are processed therein vertically, and each chamber has a processing source attached to one sidewall thereof, wherein the other sidewall backs to a complementary processing chamber. The chamber system can be milled from a single block of metal, e.g., aluminum, wherein the block is milled from both sides, such that a wall remains and separates each two complementary processing chambers.
La présente invention se rapporte à un système de traitement de substrat qui permet un traitement statique et mobile combiné. De même, la présente invention se rapporte à une architecture de système qui réduit l'encombrement de l'empreinte. Le système est construit de telle sorte que les substrats soient traités à l'intérieur de ce dernier de manière verticale et chaque chambre comprend une source de traitement fixée à une paroi latérale de cette dernière, l'autre paroi latérale donne sur une chambre de traitement complémentaire. Le système de chambre peut être laminé à partir d'un seul bloc de métal, par exemple l'aluminium, le bloc étant laminé à partir des deux côtés de telle sorte qu'une paroi reste et sépare chacune des deux chambres de traitement complémentaires. |
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