A SURFACE CLEANING DEVICE AND A METHOD OF CLEANING A SURFACE

The invention relates to a vacuum surface cleaning device comprising a gas generation unit, a gas handling unit a plasma generation unit and a sample cleaning unit, wherein the gas generation unit is adapted to generate at least hydrogen and oxygen gases and to supply the said gases into the gas handling unit, wherein the gas handling unit is adapted to retrieve hydrogen and oxygen separately from a gas mixture provided by the gas generation unit, wherein the gas handling unit being further arranged to provide the retrieved gas into the plasma generation unit, wherein the plasma generation unit being adapted to generate a low energetic plasma from the said retrieved gas and to supply radicals and/or ions in the sample cleaning unit and wherein the sample cleaning unit being adapted to expose a sample to the said radicals and/or ions. The invention further relates to a method of cleaning a surface. L'invention porte sur un dispositif de nettoyage de surface sous vide comprenant une unité de génération de gaz, une unité de manipulation de gaz, une unité de génération de plasma et une unité de nettoyage d'échantillon, l'unité de génération de gaz étant conçue pour générer au moins les gaz d'hydrogène et d'oxygène et pour alimenter lesdits gaz dans l'unité de manipulation des gaz, l'unité de manipulation de gaz étant conçue pour récupérer l'hydrogène et l'oxygène séparément à partir d'un mélange de gaz fourni par l'unité de génération de gaz, l'unité de manipulation de gaz étant en outre configurée pour fournir le gaz récupéré dans l'unité de génération de plasma, l'unité de génération de plasma étant conçue pour générer un plasma de faible énergie à partir dudit gaz récupéré et pour fournir des radicaux et/ou des ions dans l'unité de nettoyage d'échantillon et l'unité de nettoyage d'échantillon étant conçue pour exposer un échantillon aux dits radicaux et/ou ions. L'invention concerne en outre un procédé de nettoyage d'une surface.