DEVICE FOR PRODUCING AND METHOD FOR PRODUCING THIN-FILM GLASS

In the present invention, a protective layer is formed by means of plasma chemical vapor deposition (CVD) on the end surface of a thin-film glass. As a result, the strength of the thin-film glass can be increased. Dans la présente invention, une couche de protection est formée au moyen d'un dép...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: MURAKAMI, JUN, OCHIAI, EIJI, SUEYASU, KIYOTAKA, OOTANI, NAOHISA, TAKAHASHI, NOBUAKI
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; jpn
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Beschreibung
Zusammenfassung:In the present invention, a protective layer is formed by means of plasma chemical vapor deposition (CVD) on the end surface of a thin-film glass. As a result, the strength of the thin-film glass can be increased. Dans la présente invention, une couche de protection est formée au moyen d'un dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sur la surface d'extrémité d'un verre en couche mince. Il en résulte que la résistance du verre en couche mince peut être améliorée.