PLASMA-TREATMENT APPARATUS

[Problem] To perform stable and accurate matching actions with high reproducibility in a power-modulation system for modulating to a pulse high-frequency power supplied in a treatment container. [Solution] In this plasma-treatment apparatus, an impedance sensor (96A) provided to a matching device multiplies a double-sampling averaged treatment based on a sampling-average-value calculation circuit (104A, 112A) and a movement-average-value calculation circuit (106A, 114A) by an RF voltage-measurement value and an RF current-measurement value obtained by the RF voltage detector (100A) of a voltage-sensor system and the RF current detector (108A) of a current-sensor system, whereby the update speed for the load-side impedance-measurement value output by the impedance sensor (96A) and the drive-control speed of the motor in the matching controller can be efficiently harmonized. Le problème présenté dans l'invention est de réaliser des actions d'appariement stables et précises avec une reproductibilité élevée dans un système de modulation de puissance permettant de moduler une puissance à haute fréquence par impulsions fournie dans un récipient de traitement. La solution réside dans un appareil de traitement par plasma, dans lequel un capteur d'impédance (96A) disposé dans un dispositif d'appariement multiplie un traitement de moyenne de double échantillonnage basé sur un circuit de calcul de valeur moyenne d'échantillonnage (104A, 112A) et un circuit de calcul de valeur moyenne de mouvement (106A, 114A) par une valeur de tension RF et une valeur de courant RF obtenues par le détecteur de tension RF (100A) d'un système de tension et le détecteur de courant RF (108A) d'un système de courant, la vitesse d'actualisation pour la valeur de mesure d'impédance du côté de la charge produite par le capteur d'impédance (96A) et la vitesse de contrôle d'entraînement du moteur dans le contrôleur d'appariement pouvant être harmonisées efficacement.