CONTINUOUS MASS FLOW GAS REPLENISHMENT FOR GAS LASING DEVICES

Continuous mass flow gas replenishment may be implemented in a gas lasing device, such as a gas laser or amplifier, by using a restrictive orifice to bleed one or more gases into a reservoir and/or discharge chamber of the gas laser or amplifier at a predefined mass flow rate. The mass flow rate is a function of the pressure drop across the restrictive orifice resulting from the pressure differential between the depleted gas and the source gas. Thus, gases may be added as needed such that the gas total pressure, as well as the constituent partial pressures, is maintained within a desired range throughout the laser or amplifier fill lifetime. Selon l'invention, une régénération continue d'un débit massique de gaz peut être mise en oeuvre dans un dispositif laser à gaz, notamment un laser ou amplificateur à gaz, par utilisation d'un orifice restrictif permettant de prélever un ou plusieurs gaz pour les envoyer dans un réservoir et/ou une chambre de décharge du laser ou amplificateur à gaz, selon un débit massique prédéfini. Le débit massique dépend de la baisse de pression, à travers l'orifice restrictif, résultant de la différence de pression entre le gaz appauvri et le gaz source. Ainsi, les gaz peuvent être ajoutés selon les besoins, de sorte que la pression totale du gaz, tout comme les pressions partielles constitutives, est maintenue dans une plage désirée tout au long de la durée de vie de remplissage du laser ou de l'amplificateur. La régénération continue du débit massique de gaz peut ainsi compenser la perte de pression partielle des gaz réactifs dans des dispositifs laser à gaz, d'une manière moins compliquée et moins coûteuse que d'autres méthodes à débit continu.