ASSEMBLY FOR FEEDING IN HF CURRENT FOR TUBULAR CATHODES

ASSEMBLY FOR FEEDING IN HF CURRENT FOR TUBULAR CATHODES

Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für drehbare Rohrkathoden (1) in einer Vakuumkammer (4) einer Plasma-Beschichtungsanlage, sowie einer Hochfrequenz-Stromquelle (14) und einer innerhalb der Rohrkathode (1) befindlichen und sich längs derselben ersteckenden Magnetanor...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KREHER, SASCHA, GAWER, OLAF
Format: Patent
Sprache:eng ; fre ; ger
Schlagworte:
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRICITY
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container_end_page
container_issue
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container_title
container_volume
creator KREHER, SASCHA
GAWER, OLAF
description Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für drehbare Rohrkathoden (1) in einer Vakuumkammer (4) einer Plasma-Beschichtungsanlage, sowie einer Hochfrequenz-Stromquelle (14) und einer innerhalb der Rohrkathode (1) befindlichen und sich längs derselben ersteckenden Magnetanordnung (7) zur Erzeugung eines Magnetfeldes (6). Durch die Erfindung soll, eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für Rohrkathoden geschaffen werden, die eine verlustarme Einspeisung des HF-Stromes ermöglicht, so dass ein besonders homogener Sputterabtrag von der Rohrkathode gewährleistet wird. Erreicht wird das dadurch, dass die HF-Stromquelle (14) über eine kapazitive HF-Einspeisung (9) in Form eines Koppelkondensators (18) mit der Rohrkathode (1) innerhalb der Vakuumkammer (4) gekoppelt ist. Der Koppelkondensator (18) der HF-Einspeisung (9) besteht aus einem Teil der Oberfläche der Rohrkathode (1) und einer Metallplatte oder -folie (10), die die Rohrkathode (1) wenigstens teilweise in einem vorgegebenen Abstand umschließt. The invention relates to an assembly for feeding in HF current for rotatable tubular cathodes (1) in a vacuum chamber (4) of a plasma coating system, and a high-frequency current source (14) and a magnet assembly (7) located within the tubular cathode (1) and extending along the tubular cathode for producing a magnetic field (6). The aim of the invention is to create an assembly for feeding in HF current for tubular cathodes that enables a low-loss feed-in of the HF current in such a manner that especially homogeneous sputter removal from the tubular cathode is guaranteed. Said aim is achieved in that the HF current source (14) is coupled to the tubular cathode (1) within the vacuum chamber (4) by means of a capacitive HF feed-in (9) in the form of a coupling capacitor (18). The coupling capacitor (18) of the HF feed-in (9) comprises a part of the surface of the tubular cathode (1) and a metal plate or metal film (10), which surrounds the tubular cathode (1) at least partially at a specified distance. La présente invention concerne un système d'alimentation en courant HF pour cathodes tubulaires rotatives (1) dans une chambre à vide (4) d'une installation de revêtement plasma, ainsi qu'une source de courant haute fréquence (14) et un agencement d'aimants (7) qui est situé dans la cathode tubulaire (1) et qui s'étend sur toute la longueur de ladite cathode pour générer un champ magnétique (6). Le but de l'invention est de créer un systèm
format Patent
fullrecord <record><control><sourceid>epo_EVB</sourceid><recordid>TN_cdi_epo_espacenet_WO2013068524A4</recordid><sourceformat>XML</sourceformat><sourcesystem>PC</sourcesystem><sourcerecordid>WO2013068524A4</sourcerecordid><originalsourceid>FETCH-epo_espacenet_WO2013068524A43</originalsourceid><addsrcrecordid>eNrjZDB3DA529XXyiVRw8w9ScHN1dfH0c1fw9FPwcFNwDg0KcvULAcuEhDqF-jgGKTg7hnj4u7gG8zCwpiXmFKfyQmluBmU31xBnD93Ugvz41OKCxOTUvNSS-HB_IwNDYwMzC1MjE0cTY-JUAQC9vSjk</addsrcrecordid><sourcetype>Open Access Repository</sourcetype><iscdi>true</iscdi><recordtype>patent</recordtype></control><display><type>patent</type><title>ASSEMBLY FOR FEEDING IN HF CURRENT FOR TUBULAR CATHODES</title><source>esp@cenet</source><creator>KREHER, SASCHA ; GAWER, OLAF</creator><creatorcontrib>KREHER, SASCHA ; GAWER, OLAF</creatorcontrib><description>Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für drehbare Rohrkathoden (1) in einer Vakuumkammer (4) einer Plasma-Beschichtungsanlage, sowie einer Hochfrequenz-Stromquelle (14) und einer innerhalb der Rohrkathode (1) befindlichen und sich längs derselben ersteckenden Magnetanordnung (7) zur Erzeugung eines Magnetfeldes (6). Durch die Erfindung soll, eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für Rohrkathoden geschaffen werden, die eine verlustarme Einspeisung des HF-Stromes ermöglicht, so dass ein besonders homogener Sputterabtrag von der Rohrkathode gewährleistet wird. Erreicht wird das dadurch, dass die HF-Stromquelle (14) über eine kapazitive HF-Einspeisung (9) in Form eines Koppelkondensators (18) mit der Rohrkathode (1) innerhalb der Vakuumkammer (4) gekoppelt ist. Der Koppelkondensator (18) der HF-Einspeisung (9) besteht aus einem Teil der Oberfläche der Rohrkathode (1) und einer Metallplatte oder -folie (10), die die Rohrkathode (1) wenigstens teilweise in einem vorgegebenen Abstand umschließt. The invention relates to an assembly for feeding in HF current for rotatable tubular cathodes (1) in a vacuum chamber (4) of a plasma coating system, and a high-frequency current source (14) and a magnet assembly (7) located within the tubular cathode (1) and extending along the tubular cathode for producing a magnetic field (6). The aim of the invention is to create an assembly for feeding in HF current for tubular cathodes that enables a low-loss feed-in of the HF current in such a manner that especially homogeneous sputter removal from the tubular cathode is guaranteed. Said aim is achieved in that the HF current source (14) is coupled to the tubular cathode (1) within the vacuum chamber (4) by means of a capacitive HF feed-in (9) in the form of a coupling capacitor (18). The coupling capacitor (18) of the HF feed-in (9) comprises a part of the surface of the tubular cathode (1) and a metal plate or metal film (10), which surrounds the tubular cathode (1) at least partially at a specified distance. La présente invention concerne un système d'alimentation en courant HF pour cathodes tubulaires rotatives (1) dans une chambre à vide (4) d'une installation de revêtement plasma, ainsi qu'une source de courant haute fréquence (14) et un agencement d'aimants (7) qui est situé dans la cathode tubulaire (1) et qui s'étend sur toute la longueur de ladite cathode pour générer un champ magnétique (6). Le but de l'invention est de créer un système d'alimentation en courant HF pour cathodes tubulaires permettant d'obtenir une alimentation à faibles pertes en courant HF afin de garantir une pulvérisation cathodique par la cathode tubulaire particulièrement homogène. Cet objectif est atteint par le couplage de la source de courant HF (14) avec la cathode tubulaire (1) au sein de la chambre à vide (4) par une alimentation HF capacitive (9) sous forme d'un condensateur de couplage (18). Le condensateur de couplage (18) de l'alimentation HF (9) se compose d'une partie de la surface de la cathode tubulaire (1) et d'une plaque ou d'une feuille métallique (10) qui entoure au moins partiellement la cathode tubulaire (1) à une distance prédéfinie.</description><language>eng ; fre ; ger</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS ; ELECTRICITY</subject><creationdate>2013</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20130627&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2013068524A4$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,776,881,25543,76293</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20130627&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2013068524A4$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>KREHER, SASCHA</creatorcontrib><creatorcontrib>GAWER, OLAF</creatorcontrib><title>ASSEMBLY FOR FEEDING IN HF CURRENT FOR TUBULAR CATHODES</title><description>Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für drehbare Rohrkathoden (1) in einer Vakuumkammer (4) einer Plasma-Beschichtungsanlage, sowie einer Hochfrequenz-Stromquelle (14) und einer innerhalb der Rohrkathode (1) befindlichen und sich längs derselben ersteckenden Magnetanordnung (7) zur Erzeugung eines Magnetfeldes (6). Durch die Erfindung soll, eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für Rohrkathoden geschaffen werden, die eine verlustarme Einspeisung des HF-Stromes ermöglicht, so dass ein besonders homogener Sputterabtrag von der Rohrkathode gewährleistet wird. Erreicht wird das dadurch, dass die HF-Stromquelle (14) über eine kapazitive HF-Einspeisung (9) in Form eines Koppelkondensators (18) mit der Rohrkathode (1) innerhalb der Vakuumkammer (4) gekoppelt ist. Der Koppelkondensator (18) der HF-Einspeisung (9) besteht aus einem Teil der Oberfläche der Rohrkathode (1) und einer Metallplatte oder -folie (10), die die Rohrkathode (1) wenigstens teilweise in einem vorgegebenen Abstand umschließt. The invention relates to an assembly for feeding in HF current for rotatable tubular cathodes (1) in a vacuum chamber (4) of a plasma coating system, and a high-frequency current source (14) and a magnet assembly (7) located within the tubular cathode (1) and extending along the tubular cathode for producing a magnetic field (6). The aim of the invention is to create an assembly for feeding in HF current for tubular cathodes that enables a low-loss feed-in of the HF current in such a manner that especially homogeneous sputter removal from the tubular cathode is guaranteed. Said aim is achieved in that the HF current source (14) is coupled to the tubular cathode (1) within the vacuum chamber (4) by means of a capacitive HF feed-in (9) in the form of a coupling capacitor (18). The coupling capacitor (18) of the HF feed-in (9) comprises a part of the surface of the tubular cathode (1) and a metal plate or metal film (10), which surrounds the tubular cathode (1) at least partially at a specified distance. La présente invention concerne un système d'alimentation en courant HF pour cathodes tubulaires rotatives (1) dans une chambre à vide (4) d'une installation de revêtement plasma, ainsi qu'une source de courant haute fréquence (14) et un agencement d'aimants (7) qui est situé dans la cathode tubulaire (1) et qui s'étend sur toute la longueur de ladite cathode pour générer un champ magnétique (6). Le but de l'invention est de créer un système d'alimentation en courant HF pour cathodes tubulaires permettant d'obtenir une alimentation à faibles pertes en courant HF afin de garantir une pulvérisation cathodique par la cathode tubulaire particulièrement homogène. Cet objectif est atteint par le couplage de la source de courant HF (14) avec la cathode tubulaire (1) au sein de la chambre à vide (4) par une alimentation HF capacitive (9) sous forme d'un condensateur de couplage (18). Le condensateur de couplage (18) de l'alimentation HF (9) se compose d'une partie de la surface de la cathode tubulaire (1) et d'une plaque ou d'une feuille métallique (10) qui entoure au moins partiellement la cathode tubulaire (1) à une distance prédéfinie.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</subject><subject>ELECTRICITY</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2013</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZDB3DA529XXyiVRw8w9ScHN1dfH0c1fw9FPwcFNwDg0KcvULAcuEhDqF-jgGKTg7hnj4u7gG8zCwpiXmFKfyQmluBmU31xBnD93Ugvz41OKCxOTUvNSS-HB_IwNDYwMzC1MjE0cTY-JUAQC9vSjk</recordid><startdate>20130627</startdate><enddate>20130627</enddate><creator>KREHER, SASCHA</creator><creator>GAWER, OLAF</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20130627</creationdate><title>ASSEMBLY FOR FEEDING IN HF CURRENT FOR TUBULAR CATHODES</title><author>KREHER, SASCHA ; GAWER, OLAF</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2013068524A43</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; ger</language><creationdate>2013</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS</topic><topic>ELECTRICITY</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>KREHER, SASCHA</creatorcontrib><creatorcontrib>GAWER, OLAF</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>KREHER, SASCHA</au><au>GAWER, OLAF</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>ASSEMBLY FOR FEEDING IN HF CURRENT FOR TUBULAR CATHODES</title><date>2013-06-27</date><risdate>2013</risdate><abstract>Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für drehbare Rohrkathoden (1) in einer Vakuumkammer (4) einer Plasma-Beschichtungsanlage, sowie einer Hochfrequenz-Stromquelle (14) und einer innerhalb der Rohrkathode (1) befindlichen und sich längs derselben ersteckenden Magnetanordnung (7) zur Erzeugung eines Magnetfeldes (6). Durch die Erfindung soll, eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für Rohrkathoden geschaffen werden, die eine verlustarme Einspeisung des HF-Stromes ermöglicht, so dass ein besonders homogener Sputterabtrag von der Rohrkathode gewährleistet wird. Erreicht wird das dadurch, dass die HF-Stromquelle (14) über eine kapazitive HF-Einspeisung (9) in Form eines Koppelkondensators (18) mit der Rohrkathode (1) innerhalb der Vakuumkammer (4) gekoppelt ist. Der Koppelkondensator (18) der HF-Einspeisung (9) besteht aus einem Teil der Oberfläche der Rohrkathode (1) und einer Metallplatte oder -folie (10), die die Rohrkathode (1) wenigstens teilweise in einem vorgegebenen Abstand umschließt. The invention relates to an assembly for feeding in HF current for rotatable tubular cathodes (1) in a vacuum chamber (4) of a plasma coating system, and a high-frequency current source (14) and a magnet assembly (7) located within the tubular cathode (1) and extending along the tubular cathode for producing a magnetic field (6). The aim of the invention is to create an assembly for feeding in HF current for tubular cathodes that enables a low-loss feed-in of the HF current in such a manner that especially homogeneous sputter removal from the tubular cathode is guaranteed. Said aim is achieved in that the HF current source (14) is coupled to the tubular cathode (1) within the vacuum chamber (4) by means of a capacitive HF feed-in (9) in the form of a coupling capacitor (18). The coupling capacitor (18) of the HF feed-in (9) comprises a part of the surface of the tubular cathode (1) and a metal plate or metal film (10), which surrounds the tubular cathode (1) at least partially at a specified distance. La présente invention concerne un système d'alimentation en courant HF pour cathodes tubulaires rotatives (1) dans une chambre à vide (4) d'une installation de revêtement plasma, ainsi qu'une source de courant haute fréquence (14) et un agencement d'aimants (7) qui est situé dans la cathode tubulaire (1) et qui s'étend sur toute la longueur de ladite cathode pour générer un champ magnétique (6). Le but de l'invention est de créer un système d'alimentation en courant HF pour cathodes tubulaires permettant d'obtenir une alimentation à faibles pertes en courant HF afin de garantir une pulvérisation cathodique par la cathode tubulaire particulièrement homogène. Cet objectif est atteint par le couplage de la source de courant HF (14) avec la cathode tubulaire (1) au sein de la chambre à vide (4) par une alimentation HF capacitive (9) sous forme d'un condensateur de couplage (18). Le condensateur de couplage (18) de l'alimentation HF (9) se compose d'une partie de la surface de la cathode tubulaire (1) et d'une plaque ou d'une feuille métallique (10) qui entoure au moins partiellement la cathode tubulaire (1) à une distance prédéfinie.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record>
fulltext fulltext_linktorsrc
identifier
ispartof
issn
language eng ; fre ; ger
recordid cdi_epo_espacenet_WO2013068524A4
source esp@cenet
subjects BASIC ELECTRIC ELEMENTS
ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
ELECTRICITY
title ASSEMBLY FOR FEEDING IN HF CURRENT FOR TUBULAR CATHODES
url https://sfx.bib-bvb.de/sfx_tum?ctx_ver=Z39.88-2004&ctx_enc=info:ofi/enc:UTF-8&ctx_tim=2025-01-23T18%3A06%3A34IST&url_ver=Z39.88-2004&url_ctx_fmt=infofi/fmt:kev:mtx:ctx&rfr_id=info:sid/primo.exlibrisgroup.com:primo3-Article-epo_EVB&rft_val_fmt=info:ofi/fmt:kev:mtx:patent&rft.genre=patent&rft.au=KREHER,%20SASCHA&rft.date=2013-06-27&rft_id=info:doi/&rft_dat=%3Cepo_EVB%3EWO2013068524A4%3C/epo_EVB%3E%3Curl%3E%3C/url%3E&disable_directlink=true&sfx.directlink=off&sfx.report_link=0&rft_id=info:oai/&rft_id=info:pmid/&rfr_iscdi=true