ASSEMBLY FOR FEEDING IN HF CURRENT FOR TUBULAR CATHODES

Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für drehbare Rohrkathoden (1) in einer Vakuumkammer (4) einer Plasma-Beschichtungsanlage, sowie einer Hochfrequenz-Stromquelle (14) und einer innerhalb der Rohrkathode (1) befindlichen und sich längs derselben ersteckenden Magnetanordnung (7) zur Erzeugung eines Magnetfeldes (6). Durch die Erfindung soll, eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für Rohrkathoden geschaffen werden, die eine verlustarme Einspeisung des HF-Stromes ermöglicht, so dass ein besonders homogener Sputterabtrag von der Rohrkathode gewährleistet wird. Erreicht wird das dadurch, dass die HF-Stromquelle (14) über eine kapazitive HF-Einspeisung (9) in Form eines Koppelkondensators (18) mit der Rohrkathode (1) innerhalb der Vakuumkammer (4) gekoppelt ist. Der Koppelkondensator (18) der HF-Einspeisung (9) besteht aus einem Teil der Oberfläche der Rohrkathode (1) und einer Metallplatte oder -folie (10), die die Rohrkathode (1) wenigstens teilweise in einem vorgegebenen Abstand umschließt. The invention relates to an assembly for feeding in HF current for rotatable tubular cathodes (1) in a vacuum chamber (4) of a plasma coating system, and a high-frequency current source (14) and a magnet assembly (7) located within the tubular cathode (1) and extending along the tubular cathode for producing a magnetic field (6). The aim of the invention is to create an assembly for feeding in HF current for tubular cathodes that enables a low-loss feed-in of the HF current in such a manner that especially homogeneous sputter removal from the tubular cathode is guaranteed. Said aim is achieved in that the HF current source (14) is coupled to the tubular cathode (1) within the vacuum chamber (4) by means of a capacitive HF feed-in (9) in the form of a coupling capacitor (18). The coupling capacitor (18) of the HF feed-in (9) comprises a part of the surface of the tubular cathode (1) and a metal plate or metal film (10), which surrounds the tubular cathode (1) at least partially at a specified distance. La présente invention concerne un système d'alimentation en courant HF pour cathodes tubulaires rotatives (1) dans une chambre à vide (4) d'une installation de revêtement plasma, ainsi qu'une source de courant haute fréquence (14) et un agencement d'aimants (7) qui est situé dans la cathode tubulaire (1) et qui s'étend sur toute la longueur de ladite cathode pour générer un champ magnétique (6). Le but de l'invention est de créer un systèm