A METHOD AND AN APPARATUS HAVING A COMPRESSIBLE COLLAR FOR THERMALLY TREATING A PHOTOSENSITIVE PRECURSOR

The invention pertains to a method and apparatus for preparing a printing form from a precursor, particularly a method and apparatus for preparing the printing form by thermally treating a photosensitive precursor having a photopolymerizable layer. The method and apparatus includes heating the photo...

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1. Verfasser: ARNOLD, CARL BERNARD
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:The invention pertains to a method and apparatus for preparing a printing form from a precursor, particularly a method and apparatus for preparing the printing form by thermally treating a photosensitive precursor having a photopolymerizable layer. The method and apparatus includes heating the photosensitive precursor to a temperature sufficient to cause a portion of the layer to liquefy, contacting the precursor with a development medium to remove the liquefied material, and supporting a development medium with a core member adjacent an exterior surface of the photosensitive precursor, wherein a compressible collar of a closed-cell foam having a Poisson's ratio of less than 0.4 is disposed between the core member and the development medium. La présente invention concerne un procédé et un appareil qui permettent de préparer une forme d'impression à partir d'un précurseur, en particulier un procédé et un appareil qui permettent de préparer la forme d'impression par traitement thermique d'un précurseur photosensible ayant une couche photopolymérisable. Le procédé et l'appareil comprennent le chauffage du précurseur photosensible à une température suffisante pour amener une partie de la couche à se liquéfier, la mise en contact du précurseur avec un support de développement afin d'éliminer la matière liquéfiée et le soutien d'un support de développement avec un élément noyau adjacent à une surface extérieure du précurseur photosensible, un collier compressible d'une mousse à cellules fermées ayant un rapport de Poisson inférieur à 0,4 étant disposé entre l'élément noyau et le support de développement.