METHODS FOR WAFER BONDING AND FOR NUCLEATING BONDING NANOPHASES USING WET AND STEAM PRESSURIZATION

Substrates may be bonded according to a method comprising contacting a first bonding surface of a first substrate with a second bonding surface of a second substrate to form an assembly in the presence of an steam atmosphere under suitable conditions to form a bonding layer between the first and second surfaces, wherein the first bonding surface comprises a polarized surface layer; the second bonding surface comprises a hydrophilic surface layer; the first and second bonding surfaces are different. La présente invention porte sur des substrats qui peuvent être liés selon un procédé comprenant la mise en contact d'une première surface de liaison d'un premier substrat avec une seconde surface de liaison d'un second substrat pour former un ensemble en présence d'une atmosphère de vapeur sous des conditions appropriées pour former une couche de liaison entre les première et seconde surfaces, la première surface de liaison comprenant une couche de surface polarisée ; la seconde surface de liaison comprenant une couche de surface hydrophile ; les première et seconde surfaces de liaison étant différentes.