SYSTEMS AND METHODS OF WAFER GRINDING

Systems and methods are provided for use in processing and/or grinding wafers or other work products. Some embodiments provide a grinding apparatus that comprise a base casting; a rotary indexer configured to rotate within the base casting; a work spindle secured with the rotary indexer; a work chuc...

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Hauptverfasser: WALSH, THOMAS A, VOGTMANN, MICHAEL R
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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creator WALSH, THOMAS A
VOGTMANN, MICHAEL R
description Systems and methods are provided for use in processing and/or grinding wafers or other work products. Some embodiments provide a grinding apparatus that comprise a base casting; a rotary indexer configured to rotate within the base casting; a work spindle secured with the rotary indexer; a work chuck coupled with the first work spindle, wherein the first work spindle is configured to rotate the first work chuck; a bridge casting secured relative to the base casting, wherein the bridge casting bridges across at least a portion of the rotary indexer and is supported structurally forming a closed stiffness loop; a grind spindle secured with the bridge casting; and a grind wheel cooperated with the grind spindle, wherein the bridge casting secures the grind spindle. L'invention porte sur des systèmes et sur des procédés, lesquels sont destinés à être utilisés dans le traitement et/ou le ponçage de tranches ou d'autres produits de travail. Certains modes de réalisation portent sur un appareil de ponçage qui comprend un moulage de base ; un indexeur rotatif configuré de façon à tourner à l'intérieur du moulage de base ; un arbre rotatif de travail fixé à l'indexeur rotatif ; un mandrin de travail couplé au premier arbre rotatif de travail, le premier arbre rotatif de travail étant configuré de façon à faire tourner le premier mandrin de travail ; un moulage de pont fixé par rapport au moulage de base, le moulage de pont pontant au moins une partie de l'indexeur rotatif et étant supporté structurellement de façon à former une boucle de rigidité fermée ; un arbre rotatif de ponçage fixé au moulage de pont ; et une roue de ponçage coopérant avec l'arbre rotatif de ponçage, le moulage de pont fixant l'arbre rotatif de ponçage.
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Some embodiments provide a grinding apparatus that comprise a base casting; a rotary indexer configured to rotate within the base casting; a work spindle secured with the rotary indexer; a work chuck coupled with the first work spindle, wherein the first work spindle is configured to rotate the first work chuck; a bridge casting secured relative to the base casting, wherein the bridge casting bridges across at least a portion of the rotary indexer and is supported structurally forming a closed stiffness loop; a grind spindle secured with the bridge casting; and a grind wheel cooperated with the grind spindle, wherein the bridge casting secures the grind spindle. L'invention porte sur des systèmes et sur des procédés, lesquels sont destinés à être utilisés dans le traitement et/ou le ponçage de tranches ou d'autres produits de travail. Certains modes de réalisation portent sur un appareil de ponçage qui comprend un moulage de base ; un indexeur rotatif configuré de façon à tourner à l'intérieur du moulage de base ; un arbre rotatif de travail fixé à l'indexeur rotatif ; un mandrin de travail couplé au premier arbre rotatif de travail, le premier arbre rotatif de travail étant configuré de façon à faire tourner le premier mandrin de travail ; un moulage de pont fixé par rapport au moulage de base, le moulage de pont pontant au moins une partie de l'indexeur rotatif et étant supporté structurellement de façon à former une boucle de rigidité fermée ; un arbre rotatif de ponçage fixé au moulage de pont ; et une roue de ponçage coopérant avec l'arbre rotatif de ponçage, le moulage de pont fixant l'arbre rotatif de ponçage.</description><language>eng ; fre</language><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS ; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES ; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR ; ELECTRICITY ; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS ; GRINDING ; MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING ; PERFORMING OPERATIONS ; POLISHING ; SEMICONDUCTOR DEVICES ; TRANSPORTING</subject><creationdate>2013</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20130425&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2013059705A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,780,885,25564,76547</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&amp;date=20130425&amp;DB=EPODOC&amp;CC=WO&amp;NR=2013059705A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>WALSH, THOMAS A</creatorcontrib><creatorcontrib>VOGTMANN, MICHAEL R</creatorcontrib><title>SYSTEMS AND METHODS OF WAFER GRINDING</title><description>Systems and methods are provided for use in processing and/or grinding wafers or other work products. 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Certains modes de réalisation portent sur un appareil de ponçage qui comprend un moulage de base ; un indexeur rotatif configuré de façon à tourner à l'intérieur du moulage de base ; un arbre rotatif de travail fixé à l'indexeur rotatif ; un mandrin de travail couplé au premier arbre rotatif de travail, le premier arbre rotatif de travail étant configuré de façon à faire tourner le premier mandrin de travail ; un moulage de pont fixé par rapport au moulage de base, le moulage de pont pontant au moins une partie de l'indexeur rotatif et étant supporté structurellement de façon à former une boucle de rigidité fermée ; un arbre rotatif de ponçage fixé au moulage de pont ; et une roue de ponçage coopérant avec l'arbre rotatif de ponçage, le moulage de pont fixant l'arbre rotatif de ponçage.</description><subject>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</subject><subject>DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES</subject><subject>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</subject><subject>ELECTRICITY</subject><subject>FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS</subject><subject>GRINDING</subject><subject>MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING</subject><subject>PERFORMING OPERATIONS</subject><subject>POLISHING</subject><subject>SEMICONDUCTOR DEVICES</subject><subject>TRANSPORTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2013</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZFANjgwOcfUNVnD0c1HwdQ3x8HcJVvB3Uwh3dHMNUnAP8vRz8fRz52FgTUvMKU7lhdLcDMpuriHOHrqpBfnxqcUFicmpeakl8eH-RgaGxgamluYGpo6GxsSpAgAjgiQX</recordid><startdate>20130425</startdate><enddate>20130425</enddate><creator>WALSH, THOMAS A</creator><creator>VOGTMANN, MICHAEL R</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20130425</creationdate><title>SYSTEMS AND METHODS OF WAFER GRINDING</title><author>WALSH, THOMAS A ; VOGTMANN, MICHAEL R</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2013059705A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre</language><creationdate>2013</creationdate><topic>BASIC ELECTRIC ELEMENTS</topic><topic>DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES</topic><topic>ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR</topic><topic>ELECTRICITY</topic><topic>FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS</topic><topic>GRINDING</topic><topic>MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING</topic><topic>PERFORMING OPERATIONS</topic><topic>POLISHING</topic><topic>SEMICONDUCTOR DEVICES</topic><topic>TRANSPORTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>WALSH, THOMAS A</creatorcontrib><creatorcontrib>VOGTMANN, MICHAEL R</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>WALSH, THOMAS A</au><au>VOGTMANN, MICHAEL R</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>SYSTEMS AND METHODS OF WAFER GRINDING</title><date>2013-04-25</date><risdate>2013</risdate><abstract>Systems and methods are provided for use in processing and/or grinding wafers or other work products. 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