ARRANGEMENT FOR COATING A SUBSTRATE
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung zum Beschichten eines Substrats (12) mit einem organischen Beschichtungsmaterial (16), umfassend wenigstens einen Verdampfungsbehälter (18) zur Aufnahme von organischem Beschichtungsmaterial (16) und wenigstens eine Wärmequelle (20) zum Verdampfen de...
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| Format: | Patent |
| Sprache: | eng ; fre ; ger |
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| creator | WALTHER, BENJAMIN KNIPRATH, ROLF LINDNER, PETER |
| description | Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung zum Beschichten eines Substrats (12) mit einem organischen Beschichtungsmaterial (16), umfassend wenigstens einen Verdampfungsbehälter (18) zur Aufnahme von organischem Beschichtungsmaterial (16) und wenigstens eine Wärmequelle (20) zum Verdampfen des organischen Beschichtungsmaterials (16), wobei der Verdampfungsbehälter (18) eine Austrittsöffnung (22) für verdampftes organisches Beschichtungsmaterial (16) aufweist, und wobei wenigstens eine absorptionsspektroskopische Anordnung (26) mit einer Strahlungsquelle (32) und einem Detektor (36) zum Erfassen der Dampfdichte des verdampften Beschichtungsmaterials (16) vorgesehen ist, und wobei die Anordnung ferner eine mit der absorptionsspektroskopischen Vorrichtung (26) verbundene Verstärkungseinheit aufweist, welche einen Strahlungszerhacker (37) zum Erzeugen einer zeitlich periodischen Pulsfolge von Strahlungspulsen durch die Strahlungsquelle und einen Lock-in-Verstärker (38) umfasst. Mit einer derartigen Anordnung ist die Beschichtungsrate etwa einer Physikalischen Gasphasenabscheidung besonders wartungsarm und genau ermittelbar. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats (12) mit einem organischen Beschichtungsmaterial (16).
The invention relates to an arrangement for coating a substrate (12) with an organic coating material (16), comprising at least one evaporation tank (18) for receiving organic coating material (16), and comprising at least one heat source (20) for evaporating the organic coating material (16). The evaporation tank (18) has a discharge opening (22) for evaporated organic coating material (16), wherein at least one absorption spectroscopic device (26) having a radiation source (32) and a detector (36) for detecting the vapor density of the evaporated coating material (16) is provided, and wherein the arrangement is further provided with an amplifier unit connected to the absorption spectroscopic device (26), said amplifier unit comprising a radiation chopper (37) for generating a time-periodic pulse sequence of radiation pulses from the radiation source, and a lock-in amplifier (38). Using an arrangement such as this, the coating rate of, for example, a physical vapor deposition process, can be determined with a particularly low maintenance and high accuracy. The invention further relates to a method for coating a substrate (12) with an organic coating material (16).
La présente invention concer |
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The invention relates to an arrangement for coating a substrate (12) with an organic coating material (16), comprising at least one evaporation tank (18) for receiving organic coating material (16), and comprising at least one heat source (20) for evaporating the organic coating material (16). The evaporation tank (18) has a discharge opening (22) for evaporated organic coating material (16), wherein at least one absorption spectroscopic device (26) having a radiation source (32) and a detector (36) for detecting the vapor density of the evaporated coating material (16) is provided, and wherein the arrangement is further provided with an amplifier unit connected to the absorption spectroscopic device (26), said amplifier unit comprising a radiation chopper (37) for generating a time-periodic pulse sequence of radiation pulses from the radiation source, and a lock-in amplifier (38). Using an arrangement such as this, the coating rate of, for example, a physical vapor deposition process, can be determined with a particularly low maintenance and high accuracy. The invention further relates to a method for coating a substrate (12) with an organic coating material (16).
La présente invention concerne un système de revêtement d'un substrat (12) avec un matériau de revêtement (16) organique comprenant au moins un récipient d'évaporation (18) pour recevoir le matériau de revêtement (16) organique et au moins une source de chaleur (20) pour l'évaporation du matériau de revêtement (16 ) organique, le récipient d'évaporation (18) présentant une ouverture de sortie (22) pour le matériau de revêtement (16) organique vaporisé, et au moins un système de spectrométrie d'absorption (26) comportant une source de rayonnement (32) et un détecteur (36) destiné à détecter la densité de la vapeur du matériau de revêtement (16) vaporisé, le système comprenant en outre une unité d'amplification reliée au système de spectrométrie d'absorption (26) qui comprend un hacheur de rayonnement (37) destiné à générer une séquence périodique d'impulsions de rayonnement par la source de rayonnement et un amplificateur à verrouillage (38). Avec un tel système, le taux de placage, par exemple d'un dépôt physique en phase gazeuse, peut être déterminé d'une manière précise et nécessitant très peu de maintenance. L'invention concerne également un procédé de revêtement d'un substrat (12) avec un matériau de revêtement (16) organique.</description><language>eng ; fre ; ger</language><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT ; CHEMISTRY ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL ; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL ; COATING METALLIC MATERIAL ; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL ; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL ; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES ; MEASURING ; METALLURGY ; PHYSICS ; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION ; TESTING</subject><creationdate>2013</creationdate><oa>free_for_read</oa><woscitedreferencessubscribed>false</woscitedreferencessubscribed></display><links><openurl>$$Topenurl_article</openurl><openurlfulltext>$$Topenurlfull_article</openurlfulltext><thumbnail>$$Tsyndetics_thumb_exl</thumbnail><linktohtml>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20130425&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2013056885A1$$EHTML$$P50$$Gepo$$Hfree_for_read</linktohtml><link.rule.ids>230,308,778,883,25547,76298</link.rule.ids><linktorsrc>$$Uhttps://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?FT=D&date=20130425&DB=EPODOC&CC=WO&NR=2013056885A1$$EView_record_in_European_Patent_Office$$FView_record_in_$$GEuropean_Patent_Office$$Hfree_for_read</linktorsrc></links><search><creatorcontrib>WALTHER, BENJAMIN</creatorcontrib><creatorcontrib>KNIPRATH, ROLF</creatorcontrib><creatorcontrib>LINDNER, PETER</creatorcontrib><title>ARRANGEMENT FOR COATING A SUBSTRATE</title><description>Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung zum Beschichten eines Substrats (12) mit einem organischen Beschichtungsmaterial (16), umfassend wenigstens einen Verdampfungsbehälter (18) zur Aufnahme von organischem Beschichtungsmaterial (16) und wenigstens eine Wärmequelle (20) zum Verdampfen des organischen Beschichtungsmaterials (16), wobei der Verdampfungsbehälter (18) eine Austrittsöffnung (22) für verdampftes organisches Beschichtungsmaterial (16) aufweist, und wobei wenigstens eine absorptionsspektroskopische Anordnung (26) mit einer Strahlungsquelle (32) und einem Detektor (36) zum Erfassen der Dampfdichte des verdampften Beschichtungsmaterials (16) vorgesehen ist, und wobei die Anordnung ferner eine mit der absorptionsspektroskopischen Vorrichtung (26) verbundene Verstärkungseinheit aufweist, welche einen Strahlungszerhacker (37) zum Erzeugen einer zeitlich periodischen Pulsfolge von Strahlungspulsen durch die Strahlungsquelle und einen Lock-in-Verstärker (38) umfasst. Mit einer derartigen Anordnung ist die Beschichtungsrate etwa einer Physikalischen Gasphasenabscheidung besonders wartungsarm und genau ermittelbar. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats (12) mit einem organischen Beschichtungsmaterial (16).
The invention relates to an arrangement for coating a substrate (12) with an organic coating material (16), comprising at least one evaporation tank (18) for receiving organic coating material (16), and comprising at least one heat source (20) for evaporating the organic coating material (16). The evaporation tank (18) has a discharge opening (22) for evaporated organic coating material (16), wherein at least one absorption spectroscopic device (26) having a radiation source (32) and a detector (36) for detecting the vapor density of the evaporated coating material (16) is provided, and wherein the arrangement is further provided with an amplifier unit connected to the absorption spectroscopic device (26), said amplifier unit comprising a radiation chopper (37) for generating a time-periodic pulse sequence of radiation pulses from the radiation source, and a lock-in amplifier (38). Using an arrangement such as this, the coating rate of, for example, a physical vapor deposition process, can be determined with a particularly low maintenance and high accuracy. The invention further relates to a method for coating a substrate (12) with an organic coating material (16).
La présente invention concerne un système de revêtement d'un substrat (12) avec un matériau de revêtement (16) organique comprenant au moins un récipient d'évaporation (18) pour recevoir le matériau de revêtement (16) organique et au moins une source de chaleur (20) pour l'évaporation du matériau de revêtement (16 ) organique, le récipient d'évaporation (18) présentant une ouverture de sortie (22) pour le matériau de revêtement (16) organique vaporisé, et au moins un système de spectrométrie d'absorption (26) comportant une source de rayonnement (32) et un détecteur (36) destiné à détecter la densité de la vapeur du matériau de revêtement (16) vaporisé, le système comprenant en outre une unité d'amplification reliée au système de spectrométrie d'absorption (26) qui comprend un hacheur de rayonnement (37) destiné à générer une séquence périodique d'impulsions de rayonnement par la source de rayonnement et un amplificateur à verrouillage (38). Avec un tel système, le taux de placage, par exemple d'un dépôt physique en phase gazeuse, peut être déterminé d'une manière précise et nécessitant très peu de maintenance. L'invention concerne également un procédé de revêtement d'un substrat (12) avec un matériau de revêtement (16) organique.</description><subject>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</subject><subject>CHEMISTRY</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</subject><subject>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</subject><subject>COATING METALLIC MATERIAL</subject><subject>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</subject><subject>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</subject><subject>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</subject><subject>MEASURING</subject><subject>METALLURGY</subject><subject>PHYSICS</subject><subject>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</subject><subject>TESTING</subject><fulltext>true</fulltext><rsrctype>patent</rsrctype><creationdate>2013</creationdate><recordtype>patent</recordtype><sourceid>EVB</sourceid><recordid>eNrjZFB2DApy9HN39XX1C1Fw8w9ScPZ3DPH0c1dwVAgOdQoOCXIMceVhYE1LzClO5YXS3AzKbq4hzh66qQX58anFBYnJqXmpJfHh_kYGhsYGpmYWFqaOhsbEqQIA4PEjpA</recordid><startdate>20130425</startdate><enddate>20130425</enddate><creator>WALTHER, BENJAMIN</creator><creator>KNIPRATH, ROLF</creator><creator>LINDNER, PETER</creator><scope>EVB</scope></search><sort><creationdate>20130425</creationdate><title>ARRANGEMENT FOR COATING A SUBSTRATE</title><author>WALTHER, BENJAMIN ; KNIPRATH, ROLF ; LINDNER, PETER</author></sort><facets><frbrtype>5</frbrtype><frbrgroupid>cdi_FETCH-epo_espacenet_WO2013056885A13</frbrgroupid><rsrctype>patents</rsrctype><prefilter>patents</prefilter><language>eng ; fre ; ger</language><creationdate>2013</creationdate><topic>CHEMICAL SURFACE TREATMENT</topic><topic>CHEMISTRY</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL</topic><topic>COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL</topic><topic>COATING METALLIC MATERIAL</topic><topic>DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL</topic><topic>INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL</topic><topic>INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES</topic><topic>MEASURING</topic><topic>METALLURGY</topic><topic>PHYSICS</topic><topic>SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION</topic><topic>TESTING</topic><toplevel>online_resources</toplevel><creatorcontrib>WALTHER, BENJAMIN</creatorcontrib><creatorcontrib>KNIPRATH, ROLF</creatorcontrib><creatorcontrib>LINDNER, PETER</creatorcontrib><collection>esp@cenet</collection></facets><delivery><delcategory>Remote Search Resource</delcategory><fulltext>fulltext_linktorsrc</fulltext></delivery><addata><au>WALTHER, BENJAMIN</au><au>KNIPRATH, ROLF</au><au>LINDNER, PETER</au><format>patent</format><genre>patent</genre><ristype>GEN</ristype><title>ARRANGEMENT FOR COATING A SUBSTRATE</title><date>2013-04-25</date><risdate>2013</risdate><abstract>Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung zum Beschichten eines Substrats (12) mit einem organischen Beschichtungsmaterial (16), umfassend wenigstens einen Verdampfungsbehälter (18) zur Aufnahme von organischem Beschichtungsmaterial (16) und wenigstens eine Wärmequelle (20) zum Verdampfen des organischen Beschichtungsmaterials (16), wobei der Verdampfungsbehälter (18) eine Austrittsöffnung (22) für verdampftes organisches Beschichtungsmaterial (16) aufweist, und wobei wenigstens eine absorptionsspektroskopische Anordnung (26) mit einer Strahlungsquelle (32) und einem Detektor (36) zum Erfassen der Dampfdichte des verdampften Beschichtungsmaterials (16) vorgesehen ist, und wobei die Anordnung ferner eine mit der absorptionsspektroskopischen Vorrichtung (26) verbundene Verstärkungseinheit aufweist, welche einen Strahlungszerhacker (37) zum Erzeugen einer zeitlich periodischen Pulsfolge von Strahlungspulsen durch die Strahlungsquelle und einen Lock-in-Verstärker (38) umfasst. Mit einer derartigen Anordnung ist die Beschichtungsrate etwa einer Physikalischen Gasphasenabscheidung besonders wartungsarm und genau ermittelbar. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats (12) mit einem organischen Beschichtungsmaterial (16).
The invention relates to an arrangement for coating a substrate (12) with an organic coating material (16), comprising at least one evaporation tank (18) for receiving organic coating material (16), and comprising at least one heat source (20) for evaporating the organic coating material (16). The evaporation tank (18) has a discharge opening (22) for evaporated organic coating material (16), wherein at least one absorption spectroscopic device (26) having a radiation source (32) and a detector (36) for detecting the vapor density of the evaporated coating material (16) is provided, and wherein the arrangement is further provided with an amplifier unit connected to the absorption spectroscopic device (26), said amplifier unit comprising a radiation chopper (37) for generating a time-periodic pulse sequence of radiation pulses from the radiation source, and a lock-in amplifier (38). Using an arrangement such as this, the coating rate of, for example, a physical vapor deposition process, can be determined with a particularly low maintenance and high accuracy. The invention further relates to a method for coating a substrate (12) with an organic coating material (16).
La présente invention concerne un système de revêtement d'un substrat (12) avec un matériau de revêtement (16) organique comprenant au moins un récipient d'évaporation (18) pour recevoir le matériau de revêtement (16) organique et au moins une source de chaleur (20) pour l'évaporation du matériau de revêtement (16 ) organique, le récipient d'évaporation (18) présentant une ouverture de sortie (22) pour le matériau de revêtement (16) organique vaporisé, et au moins un système de spectrométrie d'absorption (26) comportant une source de rayonnement (32) et un détecteur (36) destiné à détecter la densité de la vapeur du matériau de revêtement (16) vaporisé, le système comprenant en outre une unité d'amplification reliée au système de spectrométrie d'absorption (26) qui comprend un hacheur de rayonnement (37) destiné à générer une séquence périodique d'impulsions de rayonnement par la source de rayonnement et un amplificateur à verrouillage (38). Avec un tel système, le taux de placage, par exemple d'un dépôt physique en phase gazeuse, peut être déterminé d'une manière précise et nécessitant très peu de maintenance. L'invention concerne également un procédé de revêtement d'un substrat (12) avec un matériau de revêtement (16) organique.</abstract><oa>free_for_read</oa></addata></record> |
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