ARRANGEMENT FOR COATING A SUBSTRATE

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anordnung zum Beschichten eines Substrats (12) mit einem organischen Beschichtungsmaterial (16), umfassend wenigstens einen Verdampfungsbehälter (18) zur Aufnahme von organischem Beschichtungsmaterial (16) und wenigstens eine Wärmequelle (20) zum Verdampfen des organischen Beschichtungsmaterials (16), wobei der Verdampfungsbehälter (18) eine Austrittsöffnung (22) für verdampftes organisches Beschichtungsmaterial (16) aufweist, und wobei wenigstens eine absorptionsspektroskopische Anordnung (26) mit einer Strahlungsquelle (32) und einem Detektor (36) zum Erfassen der Dampfdichte des verdampften Beschichtungsmaterials (16) vorgesehen ist, und wobei die Anordnung ferner eine mit der absorptionsspektroskopischen Vorrichtung (26) verbundene Verstärkungseinheit aufweist, welche einen Strahlungszerhacker (37) zum Erzeugen einer zeitlich periodischen Pulsfolge von Strahlungspulsen durch die Strahlungsquelle und einen Lock-in-Verstärker (38) umfasst. Mit einer derartigen Anordnung ist die Beschichtungsrate etwa einer Physikalischen Gasphasenabscheidung besonders wartungsarm und genau ermittelbar. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zum Beschichten eines Substrats (12) mit einem organischen Beschichtungsmaterial (16). The invention relates to an arrangement for coating a substrate (12) with an organic coating material (16), comprising at least one evaporation tank (18) for receiving organic coating material (16), and comprising at least one heat source (20) for evaporating the organic coating material (16). The evaporation tank (18) has a discharge opening (22) for evaporated organic coating material (16), wherein at least one absorption spectroscopic device (26) having a radiation source (32) and a detector (36) for detecting the vapor density of the evaporated coating material (16) is provided, and wherein the arrangement is further provided with an amplifier unit connected to the absorption spectroscopic device (26), said amplifier unit comprising a radiation chopper (37) for generating a time-periodic pulse sequence of radiation pulses from the radiation source, and a lock-in amplifier (38). Using an arrangement such as this, the coating rate of, for example, a physical vapor deposition process, can be determined with a particularly low maintenance and high accuracy. The invention further relates to a method for coating a substrate (12) with an organic coating material (16). La présente invention concer