GATE ARRAY ARCHITECTURE WITH MULTIPLE PROGRAMMABLE REGIONS
Systems and methods are disclosed for forming a custom integrated circuit (IC) with a first fixed (non-programmable) region on a wafer with non-customizable mask layers, wherein the first fixed region includes multiplicities of transistors and a first interconnect layer and a second interconnect lay...
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Format: | Patent |
Sprache: | eng ; fre |
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Zusammenfassung: | Systems and methods are disclosed for forming a custom integrated circuit (IC) with a first fixed (non-programmable) region on a wafer with non-customizable mask layers, wherein the first fixed region includes multiplicities of transistors and a first interconnect layer and a second interconnect layer above the first interconnect layer which form base cells; and a programmable region above the first fixed region with customizable mask layers, wherein at least one mask layer in the programmable region is coupled to the second interconnect layer which provides electrical access to all transistor nodes of the base cells and wherein the programmable region comprises a third interconnect layer coupled to the customizable mask layers to customize the IC. A second fixed region may be formed above the programmable region to provide multiple fixed regions and reduce the number of required masks in customizing the custom IC.
Les systèmes et procédés ci-décrits permettent de créer un circuit intégré (IC) personnalisé doté d'une première région fixe (non programmable) sur une tranche comportant des couches de masque non personnalisables. Cette première région fixe comprend un grand nombre de transistors ainsi qu'une première couche d'interconnexion et une deuxième couche d'interconnexion située au-dessus de la première couche d'interconnexion, ces couches d'interconnexion formant des cellules de base. Ledit circuit intégré (IC) personnalisé est également doté d'une région programmable située au-dessus de la première région fixe et comportant des couches de masque personnalisables, au moins une couche de masque dans la région programmable étant couplée à la deuxième couche d'interconnexion qui donne un accès électrique à tous les noeuds de transistor des cellules de base, et la région programmable comprenant une troisième couche d'interconnexion couplée aux couches de masque personnalisables pour personnaliser l'IC. Une seconde région fixe peut se trouver au-dessus de la région programmable afin d'obtenir plusieurs régions fixes et limiter le nombre de masques nécessaires à la personnalisation de l'IC personnalisé. |
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