ELECTRICAL INSPECTION OF ELECTRONIC DEVICES USING ELECTRON-BEAM INDUCED PLASMA PROBES

A non-mechanical contact signal measurement apparatus includes a first conductor on a structure under test and a gas in contact with the first conductor. At least one electron beam is directed into the gas so as to induce a plasma in the gas where the electron beam passes through the gas. A second c...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KADAR, OFER, TOET, DANIEL, GLAZER, ARIE, LOEWINGER, RONEN, GROSS, ABRAHAM, KADYSHEVITCH, ALEXANDER
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A non-mechanical contact signal measurement apparatus includes a first conductor on a structure under test and a gas in contact with the first conductor. At least one electron beam is directed into the gas so as to induce a plasma in the gas where the electron beam passes through the gas. A second conductor is in electrical contact with the plasma. A signal source is coupled to an electrical measurement device through the first conductor, the plasma, and the second conductor when the plasma is directed on the first conductor. The electrical measurement device is responsive to the signal source. L'invention concerne un appareil de mesure de signal de contact non mécanique comprenant un premier conducteur sur une structure à l'essai et un gaz en contact avec le premier conducteur. Au moins un faisceau d'électrons est dirigé dans le gaz de façon à induire un plasma dans le gaz là où le faisceau d'électrons passe à travers le gaz. Un second conducteur est en contact électrique avec le plasma. Une source de signal est couplée à un dispositif de mesure électrique par l'intermédiaire du premier conducteur, du plasma et du second conducteur lorsque le plasma est dirigé sur le premier conducteur. Le dispositif de mesure électrique est sensible à la source de signal.