ATMOSPHERIC MOLECULAR CONTAMINATION CONTROL WITH LOCAL PURGING

A local purging tool for purging a portion of a surface of a wafer with purging gas is disclosed. The purging tool includes a purging chamber configured to contain purging gas within a cavity of the purging chamber, a permeable portion of a surface of the purging chamber configured to diffuse purging gas from the cavity of the chamber to a portion of a surface of a wafer, and an aperture configured to transmit illumination received from an illumination source to a measurement location of the portion of the surface of the wafer and further configured to transmit illumination reflected from the measurement location to a detector. L'invention concerne un outil de purge locale destiné à purger une partie d'une surface d'une plaquette avec un gaz de purge. L'outil de purge comprend une chambre de purge conçue pour contenir un gaz de purge dans une cavité de la chambre de purge, une partie perméable d'une surface de la chambre de purge étant conçue pour diffuser un gaz de purge de la cavité de la chambre à une partie d'une surface d'une plaquette, et une ouverture étant conçue pour transmettre un éclairage reçu d'une source d'éclairage à une position de mesure de la partie de la surface de la plaquette et en outre conçue pour transmettre un éclairage réfléchi par la position de mesure à un détecteur.