GENERATING, A HIGHLY IONIZED PLASMA IN A PLASMA CHAMBER

A method of generating a highly ionized plasma in a plasma chamber (2), comprises the steps of: a. providing a neutral gas to be ionized in the plasma chamber (2) at pressure below 50 Pa, b. supplying at least one high energy high power electrical pulse with power equal or larger than 100 kW and energy equal or larger than 10 J, to at least one magnetron cathode in connection with a target in the plasma chamber (2), c. producing a highly ionized plasma directly from the neutral gas in a plasma volume such that the plasma volume cross section increases during a current rise period, d. sputtering atoms from the target with the highly ionized plasma, e. ionizing at least part of the sputtered atoms. L'invention porte sur un procédé de génération d'un plasma hautement ionisé dans une chambre plasma (2), qui comprend les étapes consistant à : a. fournir un gaz neutre à ioniser dans la chambre plasma (2) à une pression inférieure à 50 Pa; b. distribuer au moins une impulsion électrique de haute puissance et de haute énergie ayant une puissance égale ou supérieure à 100 kW et une énergie égale ou supérieure à 10 J, à au moins une cathode magnétron en liaison avec une cible dans la chambre plasma (2); c. produire un plasma hautement ionisé directement à partir du gaz neutre dans un volume de plasma, de telle sorte que la section transversale de volume de plasma augmente durant une période de croissance de courant; d. pulvériser de manière cathodique des atomes d'une cible à l'aide du plasma hautement ionisé; e. ioniser au moins une partie des atomes pulvérisés de manière cathodique.