PROCESS FOR MANUFACTURING GLAZING COMPRISING A POROUS LAYER

The invention relates to a process for manufacturing glazing comprising a substrate, in particular a glass substrate, provided with a coating comprising at least one layer consisting of a porous material, in particular for which the refractive index is thus reduced thereby, comprising the following steps: depositing on the substrate, via a physical vapour deposition (PVD) process in a vacuum chamber, a coating comprising at least one layer of a material comprising at least one element selected from Si, Ti, Sn, Al, Zr, In or a mixture of at least two of these elements, oxygen and carbon, said layer in addition optionally comprising hydrogen, heat treatment of the layer thus deposited, under conditions that enable at least one portion of the carbon to be removed and said layer of porous material to be obtained, said process being characterized in that said deposition is carried out, on the substrate passing through said chamber, by the sputtering of a carbon target, under a reactive, preferably oxidizing, plasma atmosphere comprising at least one precursor of the element or elements. L'invention se rapporte à un procédé de fabrication d'un vitrage comprenant un substrat, notamment verrier, muni d'un revêtement comprenant au moins une couche constituée par un matériau poreux, notamment dont l'indice de réfraction en est ainsi diminué, comprenant les étapes suivantes : dépôt sur le substrat, par un procédé de dépôt physique en phase vapeur PVD dans une enceinte sous vide, d'un revêtement comprenant une couche d'un matériau comprenant au moins un élément choisi parmi Si, Ti, Sn, Al, Zr, In ou un mélange d'au moins deux de ces éléments, de l'oxygène, du carbone, ladite couche comprenant en outre éventuellement de l'hydrogène, traitement thermique de la couche ainsi déposée, dans des conditions permettant l'élimination d'au moins une partie du carbone et l'obtention de ladite couche du matériau poreux, ledit procédé se caractérisant en ce que ledit dépôt est réalisé sur le substrat défilant dans ladite enceinte par la pulvérisation cathodique d'une cible en carbone, dans une atmosphère d'un plasma réactif de préférence oxydant comprenant au moins un précurseur du ou des éléments.