REMOVAL OF METAL IMPURITIES FROM SILICON SURFACES FOR SOLAR CELL AND SEMICONDUCTOR APPLICATIONS

Removal compositions and processes for removing at least one metal impurity from a substrate (e.g., a silicon-containing substrate) having same thereon. Advantageously, the compositions remove metal impurities, e.g., iron, from silicon-containing substrates used as semiconductor devices and solar ce...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: KORZENSKI, MICHAEL, BARNES, JEFFREY, A, LIU, JUN, SUN, LAISHENG, LOCHTENBERG, BEN, CHEN, LI-MIN (RAYMOND), COOPER, EMANUEL, I, BAUM, THOMAS, DUBOIS, LAWRENCE
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:Removal compositions and processes for removing at least one metal impurity from a substrate (e.g., a silicon-containing substrate) having same thereon. Advantageously, the compositions remove metal impurities, e.g., iron, from silicon-containing substrates used as semiconductor devices and solar cell devices. La présente invention concerne des compositions d'élimination et des procédés d'élimination d'au moins une impureté métallique d'un substrat (par exemple, un substrat contenant du silicium) sur lequel celle-ci est présente. De manière avantageuse, les compositions éliminent les impuretés métalliques, par exemple, le fer, présentes sur des substrats contenant du silicium utilisés comme dispositifs à semi-conducteur et dispositifs à photopile.