CHARGED PARTICLE SYSTEM FOR PROCESSING A TARGET SURFACE

The invention relates to a charged particle system for processing a target surface with at least one charged particle beam. The system comprises an optical column with a beam generator module for generating a plurality of charged particle beams, a beam modulator module for switching on and off said plurality of beams and a beam projector module for projecting beams or subbeams on said target surface. The system further comprises a frame supporting each of said modules in a fixed position and alignment elements for aligning at least one of beams and/or subbeams with a downstream module element. L'invention porte sur un système de particules chargées pour traiter une surface cible à l'aide d'au moins un faisceau de particules chargées. Le système comprend une colonne optique muni d'un module de générateur de faisceaux pour générer une pluralité de faisceaux de particules chargées, un module de modulateur de faisceaux pour activer et interrompre ladite pluralité de faisceaux et un module de projecteur de faisceaux pour projeter des faisceaux ou des sous-faisceaux sur ladite surface cible. Le système comprend de plus un bâti supportant chacun desdits modules dans une position fixe et des éléments d'alignement pour aligner au moins l'un des faisceaux et/ou des sous-faisceaux avec un élément de module aval.