IMPROVED ULTRASONIC TREATMENT METHOD AND APPARATUS

Improved methods and apparatus for cleaning substrates and enhancing diffusion limited reaction at substrate surfaces use piezoelectric transducers operating in the gigasonic domain. The resonator assemblies include plural transducer stacks each including a thin film piezoelectric element coupled to a resonator plate that faces the substrate. At the disclosed frequencies and powers used, Eckart or Rayleigh streaming can be induced in a liquid treatment medium without substantial generation of cavitation. L'invention porte sur des procédés et appareils améliorés pour nettoyer des substrats et améliorer une réaction limitée en diffusion au niveau de surfaces de substrats, lesquels procédés et appareils utilisent des transducteurs piézoélectriques fonctionnant dans le domaine gigasonique. Les ensembles résonateurs comprennent plusieurs empilements de transducteurs comprenant chacun un élément piézoélectrique en couche mince couplé à une plaque de résonateur qui est tournée vers le substrat. Aux fréquences et puissances divulguées utilisées, un flux d'Eckart ou de Rayleigh peut être induit dans un milieu de traitement liquide sans génération substantielle d'une cavitation.