METHOD OF DIRECTIONAL RESISTIVITY LOGGING

A method for estimating at least one formation parameter from a directional resistivity measurement includes computing a plurality of hypothetical directional resistivity values at a corresponding plurality of formation parameter values. The computation makes use of a forward model having at least one analytical expression that relates a directional resistivity measurement to the formation parameter. The analytical expression includes at least one image source term. Comparison of computed directional resistivity values with measured direct resistivity values enables a value of at least one formation parameter to be selected. The method may be implemented on a downhole processor. L'invention porte sur un procédé d'estimation d'au moins un paramètre de formation à partir d'une mesure de résistivité directionnelle, ledit procédé consistant à calculer une pluralité de valeurs de résistivité directionnelle hypothétique pour une pluralité correspondante de valeurs de paramètre de formation. Le calcul utilise un modèle d'acheminement ayant au moins une expression analytique qui relit une mesure de résistivité directionnelle au paramètre de formation. L'expression analytique comprend au moins un terme de source d'image. Une comparaison de valeurs de résistivité directionnelle calculées avec des valeurs de résistivité directionnelle mesurées permet à une valeur d'au moins un paramètre de formation d'être sélectionnée. Le procédé peut être mis en oeuvre sur un processeur de fond de trou.