THIN SILICON SOLAR CELL AND METHOD OF MANUFACTURE

A method of fabricating a solar cell is disclosed. The method includes the steps of forming a sacrificial layer (112) on a silicon substrate (100), forming a doped silicon layer (120) atop the sacrificial substrate, forming a silicon film (130) atop the doped silicon layer (120), forming a plurality...

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Bibliographische Detailangaben
Hauptverfasser: CUDZINOVIC, MICHAEL J, RIM, SEUNG BUM, KIM, TAESEOK, MORSE, MICHAEL
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A method of fabricating a solar cell is disclosed. The method includes the steps of forming a sacrificial layer (112) on a silicon substrate (100), forming a doped silicon layer (120) atop the sacrificial substrate, forming a silicon film (130) atop the doped silicon layer (120), forming a plurality of interdigitated contacts (144, 146) on the silicon film (130), contacting each of the plurality of interdigitated contacts (144, 146) with a metal contact (150), and removing the sacrificial layer (112). Cette invention concerne un procédé de fabrication d'une cellule solaire. Ledit procédé comprend les étapes consistant à : former une couche sacrificielle (112) sur un substrat de silicium (100), former une couche de silicium dopée (120) au-dessus du substrat sacrificiel, former un film de silicium (130) au-dessus de la couche de silicium dopée (120), former une pluralité de contacts interdigités (144, 146) sur le film de silicium (130), mettre en contact chacun des contacts de la pluralité de contacts interdigités (144, 146) avec un contact métallique (150), et éliminer la couche sacrificielle (112).