EUV ACTINIC RETICLE INSPECTION SYSTEM USING IMAGING SENSOR WITH THIN FILM SPECTRAL PURITY FILTER COATING

An extreme ultraviolet (EUV) actinic reticle imaging system suitable for discharge produced plasma (DPP) or laser produced plasma (LPP) reticle imaging systems using a thin film coating spectral purity filter (SPF) positioned on or proximate to the EUV imaging sensor; an EUV imaging sensor carrying this SPF; and methods for making and using the SPF for reticle inspection. The coating may be applied to the imaging sensor in any manner suitable for the particular coating selected. The coating may be composed of a single layer or multiple layers. Typical SPF coating materials include zirconium (Zr) and silicon-zirconium (Si/Zr) in a thickness between 10 nm and 100 nm. Cette invention concerne un système d'imagerie actinique de réticules par extrême ultraviolet (EUV) pour systèmes d'imagerie de réticules par plasma produit par décharge (DPP) ou plasma produit par laser (LPP) utilisant un filtre de pureté spectrale (SPF) sous forme de revêtement en film mince placé sur, ou à proximité du détecteur d'imagerie EUV ; un détecteur d'imagerie EUV portant ce SPF ; et des procédés de fabrication et d'utilisation dudit SPF pour l'inspection de réticules. Le revêtement peut être appliqué au détecteur d'imagerie de toute manière appropriée en fonction du revêtement particulier choisi. Les matériaux de revêtement SPF classiques comprennent le zirconium (Zr) et le silicium-zirconium (Si-Zr) à une épaisseur entre 10 et 100 nm.