USING MULTIPLE MASKS TO FORM INDEPENDENT FEATURES ON A WORKPIECE

A first species is directed through a first mask with a first aperture and a second mask with a second aperture. The first aperture and second aperture may be different shapes or have different spacing. The first species may be implanted in pattern defining non-implanted regions surrounded by implan...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
1. Verfasser: RICCI, JUSTIN, M
Format: Patent
Sprache:eng ; fre
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Beschreibung
Zusammenfassung:A first species is directed through a first mask with a first aperture and a second mask with a second aperture. The first aperture and second aperture may be different shapes or have different spacing. The first species may be implanted in pattern defining non-implanted regions surrounded by implanted regions. These implanted regions are a sum of said first ion species implanted through said first aperture and said second aperture, Thus, the non-implated regions are surrounded by the implanted regions formed using the first mask and second mask. The first species also may deposit on or etch the workpiece. La présente invention se rapporte à une première espèce qui est dirigée à travers un premier masque qui présente une première ouverture, et à travers un second masque qui présente une seconde ouverture. La première ouverture et la seconde ouverture peuvent avoir des formes différentes ou présenter un espacement différent. La première espèce peut être implantée selon un motif qui définit des régions non implantées et entourées par des régions implantées. Ces régions implantées sont une somme desdites premières espèces d'ions implantées à travers ladite première ouverture et ladite seconde ouverture. Ainsi, les régions non implantées sont entourées par les régions implantées qui sont formées à l'aide du premier masque et du second masque. La première espèce peut également être déposée sur la pièce à usiner ou graver cette dernière.