GST FILM THICKNESS MONITORING

In polishing a substrate having a layer of GST disposed over an underlying layer, during polishing, a non-polarized light beam is directed onto the layer of GST. The non-polarized light beam reflects from the first substrate to generate a reflected light beam having an infra-red component. A sequence of measurements of intensity of the infra-red component of the reflected light beam are generated, and, in a processor, a time at which the sequence of measurements exhibits a predefined feature is determined. L'invention concerne le contrôle de l'épaisseur d'un film GST. Lors du polissage d'un substrat comportant une couche de GST déposée sur une couche sous-jacente, un faisceau de lumière non polarisée est dirigé sur la couche de GST. Un faisceau de lumière réfléchi possédant une composante infrarouge est obtenu par la réflexion du faisceau de lumière non polarisée sur le premier substrat. Une séquence de mesures de l'intensité de la composante infrarouge du faisceau de lumière réfléchi est générée et un processeur détermine le moment où la séquence de mesures présente une caractéristique prédéfinie.