REDUCING BACK-REFLECTION IN LASER MICROMACHINING SYSTEMS

Systems and methods reduce or prevent back-reflections in a laser processing system. A system includes a laser source to generate an incident laser beam, a laser beam output to direct the incident laser beam toward a work surface along a beam path, and a spatial filter. The system further includes a beam expander to expand a diameter of the incident laser beam received through the spatial filter, and a scan lens to focus the expanded incident laser beam at a target location on a work surface. A reflected laser beam from the work surface returns through the scan lens to the beam expander, which reduces a diameter of the reflected beam and increases a divergence angle of the reflected laser beam. The spatial filter blocks a portion of the diverging reflected laser beam from passing through the aperture and returning to the laser beam output. La présente invention se rapporte à des systèmes et à des procédés qui réduisent ou empêchent des réflexions arrière dans un système de traitement au laser. Un système comprend une source laser destinée à générer un faisceau laser incident, une sortie de faisceau laser destinée à diriger le faisceau laser incident vers une surface de travail le long d'un trajet de faisceau, et un filtre spatial. Le système comprend en outre un dilatateur de faisceau destiné à dilater un diamètre du faisceau laser incident reçu par le biais du filtre spatial, et une lentille de balayage destinée à concentrer le faisceau laser incident dilaté sur un emplacement cible sur une surface de travail. Un faisceau laser réfléchi depuis la surface de travail retourne par le biais de la lentille de balayage au dilatateur de faisceau, qui réduit le diamètre du faisceau réfléchi et augmente l'angle de divergence du faisceau laser réfléchi. Le filtre spatial empêche une partie du faisceau laser réfléchi divergent de passer à travers l'ouverture et de retourner à la sortie de faisceau laser.