CLOSED CHAMBER FOR WAFER WET PROCESSING

An improved design for a closed chamber process module for single wafer wet processing utilizes a combination lid and gas showerhead for sealing the chamber from above. One or more media arms dispense liquid onto a wafer in the chamber. The media arms are mounted inside the chamber but are connected by a linkage that passes through the chamber wall to a drive unit mounted outside the chamber. La présente invention concerne une conception améliorée pour un module de traitement à chambre fermée pour le traitement par voie humide de tranche unique. Ladite invention utilise une association de couvercle et de tête de douche gazeuse pour sceller la chambre à partir du dessus. Un ou plusieurs bras à agent distribuent un liquide sur une tranche dans la chambre. Les bras à agent sont montés à l'intérieur de la chambre mais sont reliés par une tringlerie qui passe à travers la paroi de la chambre à une unité d'entraînement montée à l'extérieur de la chambre.