PLUME STEERING

Non-elliptical ion beams (508) and plumes (510) of sputtered material can yield a relatively uniform wear pattern on a destination target (504) and a uniform deposition of sputtered material on a substrate assembly (506). The non-elliptical ion beams (508) and plumes (510) of sputtered material impinge on rotating destination targets (504) and substrate assemblies (506). A first example ion beam grid (302) and a second example ion beam grid (304) each have patterns of holes with an offset between corresponding holes. The quantity and direction of offset determines the quantity and direction of steering individual beamlets passing through corresponding holes in the first and second ion beam grids (302, 304). The beamlet steering as a whole creates a non-elliptical current density distribution within a cross- section of an ion beam (508) and generates a sputtered material plume (510) that deposits a uniform distribution of sputtered material onto a rotating substrate assembly (506). Selon l'invention, des faisceaux d'ions (508) et panaches (510) non elliptiques de matériau de pulvérisation cathodique peuvent produire un motif d'usure relativement uniforme sur une cible de destination (504) et un dépôt uniforme de matériau de pulvérisation cathodique sur un ensemble de substrat (506). Les faisceaux d'ions (508) et panaches (510) non elliptiques de matériau de pulvérisation cathodique frappent des cibles de destination (504) et ensembles de substrat (506) qui tournent. Un premier exemple de grille de faisceaux d'ions (302) et un second exemple de grille de faisceaux d'ions (304) ont chacun des motifs de trous à un décalage entre des trous correspondants. La quantité et la direction de décalage déterminent la quantité et la direction de petits faisceaux individuels traversant des trous correspondants dans les première et seconde grilles de faisceaux d'ions (302, 304). La direction de petits faisceaux crée globalement une distribution de densité de courant non elliptique à l'intérieur d'une section transversale d'un faisceau d'ions (508) et génère globalement un panache de matériau de pulvérisation cathodique (510) qui dépose une distribution uniforme de matériau de pulvérisation cathodique sur un ensemble de substrats (506) qui tournent.